Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС Формула

Fx Копировать
LaTeX Копировать
Толщина оксида затвора после полного масштабирования определяется как новая толщина оксидного слоя после уменьшения размеров транзистора за счет сохранения постоянного электрического поля. Проверьте FAQs
tox'=toxSf
tox' - Толщина оксида затвора после полного масштабирования?tox - Толщина оксида ворот?Sf - Коэффициент масштабирования?

Пример Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС

С ценностями
С единицами
Только пример

Вот как уравнение Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС выглядит как с ценностями.

Вот как уравнение Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС выглядит как с единицами.

Вот как уравнение Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС выглядит как.

1.3333Edit=2Edit1.5Edit
Копировать
Сброс
Делиться
Вы здесь -
HomeIcon Дом » Category Инженерное дело » Category Электроника » Category Изготовление СБИС » fx Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС

Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС Решение

Следуйте нашему пошаговому решению о том, как рассчитать Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС?

Первый шаг Рассмотрим формулу
tox'=toxSf
Следующий шаг Заменить значения переменных
tox'=2nm1.5
Следующий шаг Конвертировать единицы
tox'=2E-9m1.5
Следующий шаг Подготовьтесь к оценке
tox'=2E-91.5
Следующий шаг Оценивать
tox'=1.33333333333333E-09m
Следующий шаг Преобразовать в единицу вывода
tox'=1.33333333333333nm
Последний шаг Округление ответа
tox'=1.3333nm

Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС Формула Элементы

Переменные
Толщина оксида затвора после полного масштабирования
Толщина оксида затвора после полного масштабирования определяется как новая толщина оксидного слоя после уменьшения размеров транзистора за счет сохранения постоянного электрического поля.
Символ: tox'
Измерение: ДлинаЕдиница: nm
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Толщина оксида ворот
Толщина оксида затвора определяется как толщина изолирующего слоя (оксида), который отделяет электрод затвора от полупроводниковой подложки в MOSFET.
Символ: tox
Измерение: ДлинаЕдиница: nm
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Коэффициент масштабирования
Масштабный коэффициент определяется как соотношение, на которое размеры транзистора изменяются в процессе проектирования.
Символ: Sf
Измерение: NAЕдиница: Unitless
Примечание: Значение должно быть больше 0.

Другие формулы в категории Оптимизация материалов СБИС

​Идти Коэффициент эффекта тела
γ=modu̲s(Vt-Vt0Φs+(Vsb)-Φs)
​Идти Плата за канал
Qch=Cg(Vgc-Vt)
​Идти Критическое напряжение
Vx=ExEch
​Идти DIBL Коэффициент
η=Vt0-VtVds

Как оценить Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС?

Оценщик Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС использует Gate Oxide Thickness after Full Scaling = Толщина оксида ворот/Коэффициент масштабирования для оценки Толщина оксида затвора после полного масштабирования, Толщина оксида затвора после полного масштабирования по формуле СБИС определяется как новая толщина оксидного слоя после уменьшения размеров транзистора за счет сохранения постоянного электрического поля. Толщина оксида затвора после полного масштабирования обозначается символом tox'.

Как оценить Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС с помощью этого онлайн-оценщика? Чтобы использовать этот онлайн-оценщик для Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС, введите Толщина оксида ворот (tox) & Коэффициент масштабирования (Sf) и нажмите кнопку расчета.

FAQs на Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС

По какой формуле можно найти Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС?
Формула Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС выражается как Gate Oxide Thickness after Full Scaling = Толщина оксида ворот/Коэффициент масштабирования. Вот пример: 1.3E+9 = 2E-09/1.5.
Как рассчитать Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС?
С помощью Толщина оксида ворот (tox) & Коэффициент масштабирования (Sf) мы можем найти Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС, используя формулу - Gate Oxide Thickness after Full Scaling = Толщина оксида ворот/Коэффициент масштабирования.
Может ли Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС быть отрицательным?
Нет, Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС, измеренная в Длина не могу, будет отрицательной.
Какая единица измерения используется для измерения Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС?
Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС обычно измеряется с использованием нанометр[nm] для Длина. Метр[nm], Миллиметр[nm], километр[nm] — это несколько других единиц, в которых можно измерить Толщина оксида затвора после полного масштабирования СБИС.
Copied!