Коэффициент смещения подложки Формула

Fx Копировать
LaTeX Копировать
Коэффициент смещения подложки — это параметр, используемый при моделировании полевых транзисторов металл-оксид-полупроводник (MOSFET). Проверьте FAQs
γs=2[Charge-e][Permitivity-silicon]NACox
γs - Коэффициент смещения подложки?NA - Легирующая концентрация акцептора?Cox - Оксидная емкость?[Charge-e] - Заряд электрона?[Permitivity-silicon] - Диэлектрическая проницаемость кремния?

Пример Коэффициент смещения подложки

С ценностями
С единицами
Только пример

Вот как уравнение Коэффициент смещения подложки выглядит как с ценностями.

Вот как уравнение Коэффициент смещения подложки выглядит как с единицами.

Вот как уравнение Коэффициент смещения подложки выглядит как.

5.7E-7Edit=21.6E-1911.71.32Edit3.9Edit
Копировать
Сброс
Делиться
Вы здесь -
HomeIcon Дом » Category Инженерное дело » Category Электроника » Category Аналоговая электроника » fx Коэффициент смещения подложки

Коэффициент смещения подложки Решение

Следуйте нашему пошаговому решению о том, как рассчитать Коэффициент смещения подложки?

Первый шаг Рассмотрим формулу
γs=2[Charge-e][Permitivity-silicon]NACox
Следующий шаг Заменить значения переменных
γs=2[Charge-e][Permitivity-silicon]1.32electrons/cm³3.9F
Следующий шаг Замещающие значения констант
γs=21.6E-19C11.71.32electrons/cm³3.9F
Следующий шаг Конвертировать единицы
γs=21.6E-19C11.71.3E+6electrons/m³3.9F
Следующий шаг Подготовьтесь к оценке
γs=21.6E-1911.71.3E+63.9
Следующий шаг Оценивать
γs=5.70407834987726E-07
Последний шаг Округление ответа
γs=5.7E-7

Коэффициент смещения подложки Формула Элементы

Переменные
Константы
Функции
Коэффициент смещения подложки
Коэффициент смещения подложки — это параметр, используемый при моделировании полевых транзисторов металл-оксид-полупроводник (MOSFET).
Символ: γs
Измерение: NAЕдиница: Unitless
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Легирующая концентрация акцептора
Легирующая концентрация акцептора относится к концентрации атомов акцептора, намеренно добавленных в полупроводниковый материал.
Символ: NA
Измерение: Электронная плотностьЕдиница: electrons/cm³
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Оксидная емкость
Оксидная емкость относится к емкости, связанной с изолирующим оксидным слоем в структуре металл-оксид-полупроводник (МОП), например, в МОП-транзисторах.
Символ: Cox
Измерение: ЕмкостьЕдиница: F
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Заряд электрона
Заряд электрона — это фундаментальная физическая константа, представляющая электрический заряд, переносимый электроном, который является элементарной частицей с отрицательным электрическим зарядом.
Символ: [Charge-e]
Ценить: 1.60217662E-19 C
Диэлектрическая проницаемость кремния
Диэлектрическая проницаемость кремния измеряет его способность хранить электрическую энергию в электрическом поле, что жизненно важно в полупроводниковой технологии.
Символ: [Permitivity-silicon]
Ценить: 11.7
sqrt
Функция квадратного корня — это функция, которая принимает в качестве входных данных неотрицательное число и возвращает квадратный корень заданного входного числа.
Синтаксис: sqrt(Number)

Другие формулы в категории МОП-транзистор

​Идти Емкость перехода на боковой стенке с нулевым смещением на единицу длины
Cjsw=Cj0swxj
​Идти Эквивалентная большая емкость сигнального перехода
Ceq(sw)=PCjswKeq(sw)
​Идти Потенциал Ферми для типа P
ΦFp=[BoltZ]Ta[Charge-e]ln(niNA)
​Идти Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке
Keq(sw)=-(2ΦoswV2-V1(Φosw-V2-Φosw-V1))

Как оценить Коэффициент смещения подложки?

Оценщик Коэффициент смещения подложки использует Substrate Bias Coefficient = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Легирующая концентрация акцептора)/Оксидная емкость для оценки Коэффициент смещения подложки, Формула коэффициента смещения подложки определяется как параметр, используемый при моделировании устройств на полевых транзисторах металл-оксид-полупроводник (MOSFET). Коэффициент смещения подложки обозначается символом γs.

Как оценить Коэффициент смещения подложки с помощью этого онлайн-оценщика? Чтобы использовать этот онлайн-оценщик для Коэффициент смещения подложки, введите Легирующая концентрация акцептора (NA) & Оксидная емкость (Cox) и нажмите кнопку расчета.

FAQs на Коэффициент смещения подложки

По какой формуле можно найти Коэффициент смещения подложки?
Формула Коэффициент смещения подложки выражается как Substrate Bias Coefficient = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Легирующая концентрация акцептора)/Оксидная емкость. Вот пример: 5.7E-7 = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*1320000)/3.9.
Как рассчитать Коэффициент смещения подложки?
С помощью Легирующая концентрация акцептора (NA) & Оксидная емкость (Cox) мы можем найти Коэффициент смещения подложки, используя формулу - Substrate Bias Coefficient = sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*Легирующая концентрация акцептора)/Оксидная емкость. В этой формуле также используются функции Заряд электрона, Диэлектрическая проницаемость кремния, константа(ы) и Квадратный корень (sqrt).
Copied!