Глубина истощения Регион, связанный с источником Формула

Fx Копировать
LaTeX Копировать
Область истощения источника — это область истощения, образующаяся вблизи клеммы истока, когда напряжение подается на клемму затвора. Проверьте FAQs
xdS=2[Permitivity-silicon]Φo[Charge-e]NA
xdS - Регион глубины истощения источника?Φo - Встроенный потенциал соединения?NA - Легирующая концентрация акцептора?[Permitivity-silicon] - Диэлектрическая проницаемость кремния?[Charge-e] - Заряд электрона?

Пример Глубина истощения Регион, связанный с источником

С ценностями
С единицами
Только пример

Вот как уравнение Глубина истощения Регион, связанный с источником выглядит как с ценностями.

Вот как уравнение Глубина истощения Регион, связанный с источником выглядит как с единицами.

Вот как уравнение Глубина истощения Регион, связанный с источником выглядит как.

1.5E+7Edit=211.72Edit1.6E-191.32Edit
Копировать
Сброс
Делиться
Вы здесь -
HomeIcon Дом » Category Инженерное дело » Category Электроника » Category Аналоговая электроника » fx Глубина истощения Регион, связанный с источником

Глубина истощения Регион, связанный с источником Решение

Следуйте нашему пошаговому решению о том, как рассчитать Глубина истощения Регион, связанный с источником?

Первый шаг Рассмотрим формулу
xdS=2[Permitivity-silicon]Φo[Charge-e]NA
Следующий шаг Заменить значения переменных
xdS=2[Permitivity-silicon]2V[Charge-e]1.32electrons/cm³
Следующий шаг Замещающие значения констант
xdS=211.72V1.6E-19C1.32electrons/cm³
Следующий шаг Конвертировать единицы
xdS=211.72V1.6E-19C1.3E+6electrons/m³
Следующий шаг Подготовьтесь к оценке
xdS=211.721.6E-191.3E+6
Следующий шаг Оценивать
xdS=14875814.9060508m
Последний шаг Округление ответа
xdS=1.5E+7m

Глубина истощения Регион, связанный с источником Формула Элементы

Переменные
Константы
Функции
Регион глубины истощения источника
Область истощения источника — это область истощения, образующаяся вблизи клеммы истока, когда напряжение подается на клемму затвора.
Символ: xdS
Измерение: ДлинаЕдиница: m
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Встроенный потенциал соединения
Встроенный потенциал перехода — это разность потенциалов или напряжение, которое существует на полупроводниковом переходе, когда он не подключен к внешнему источнику напряжения.
Символ: Φo
Измерение: Электрический потенциалЕдиница: V
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Легирующая концентрация акцептора
Легирующая концентрация акцептора относится к концентрации атомов акцептора, намеренно добавленных в полупроводниковый материал.
Символ: NA
Измерение: Электронная плотностьЕдиница: electrons/cm³
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Диэлектрическая проницаемость кремния
Диэлектрическая проницаемость кремния измеряет его способность хранить электрическую энергию в электрическом поле, что жизненно важно в полупроводниковой технологии.
Символ: [Permitivity-silicon]
Ценить: 11.7
Заряд электрона
Заряд электрона — это фундаментальная физическая константа, представляющая электрический заряд, переносимый электроном, который является элементарной частицей с отрицательным электрическим зарядом.
Символ: [Charge-e]
Ценить: 1.60217662E-19 C
sqrt
Функция квадратного корня — это функция, которая принимает в качестве входных данных неотрицательное число и возвращает квадратный корень заданного входного числа.
Синтаксис: sqrt(Number)

Другие формулы в категории МОП-транзистор

​Идти Емкость перехода на боковой стенке с нулевым смещением на единицу длины
Cjsw=Cj0swxj
​Идти Эквивалентная большая емкость сигнального перехода
Ceq(sw)=PCjswKeq(sw)
​Идти Потенциал Ферми для типа P
ΦFp=[BoltZ]Ta[Charge-e]ln(niNA)
​Идти Коэффициент эквивалентности напряжения на боковой стенке
Keq(sw)=-(2ΦoswV2-V1(Φosw-V2-Φosw-V1))

Как оценить Глубина истощения Регион, связанный с источником?

Оценщик Глубина истощения Регион, связанный с источником использует Source's Depth of Depletion Region = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Встроенный потенциал соединения)/([Charge-e]*Легирующая концентрация акцептора)) для оценки Регион глубины истощения источника, Область истощения, связанная с формулой источника, определяется как Область истощения формируется вблизи клеммы истока, когда к клемме затвора прикладывается напряжение. Регион глубины истощения источника обозначается символом xdS.

Как оценить Глубина истощения Регион, связанный с источником с помощью этого онлайн-оценщика? Чтобы использовать этот онлайн-оценщик для Глубина истощения Регион, связанный с источником, введите Встроенный потенциал соединения o) & Легирующая концентрация акцептора (NA) и нажмите кнопку расчета.

FAQs на Глубина истощения Регион, связанный с источником

По какой формуле можно найти Глубина истощения Регион, связанный с источником?
Формула Глубина истощения Регион, связанный с источником выражается как Source's Depth of Depletion Region = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Встроенный потенциал соединения)/([Charge-e]*Легирующая концентрация акцептора)). Вот пример: 1.5E+7 = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*2)/([Charge-e]*1320000)).
Как рассчитать Глубина истощения Регион, связанный с источником?
С помощью Встроенный потенциал соединения o) & Легирующая концентрация акцептора (NA) мы можем найти Глубина истощения Регион, связанный с источником, используя формулу - Source's Depth of Depletion Region = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*Встроенный потенциал соединения)/([Charge-e]*Легирующая концентрация акцептора)). В этой формуле также используются функции Диэлектрическая проницаемость кремния, Заряд электрона, константа(ы) и Квадратный корень (sqrt).
Может ли Глубина истощения Регион, связанный с источником быть отрицательным?
Нет, Глубина истощения Регион, связанный с источником, измеренная в Длина не могу, будет отрицательной.
Какая единица измерения используется для измерения Глубина истощения Регион, связанный с источником?
Глубина истощения Регион, связанный с источником обычно измеряется с использованием Метр[m] для Длина. Миллиметр[m], километр[m], Дециметр[m] — это несколько других единиц, в которых можно измерить Глубина истощения Регион, связанный с источником.
Copied!