Fórmula Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI

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A profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno é definida como a extensão da região de esgotamento no material semicondutor próximo ao terminal de dreno. Verifique FAQs
xdD=(2[Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum][Charge-e]NA)(Ø0+Vds)
xdD - Profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno?NA - Concentração do aceitante?Ø0 - Tensão interna de junção?Vds - Drenar para Potencial de Fonte?[Permitivity-silicon] - Permissividade do silício?[Permitivity-vacuum] - Permissividade do vácuo?[Charge-e] - Carga do elétron?

Exemplo de Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI

Com valores
Com unidades
Apenas exemplo

Esta é a aparência da equação Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI com valores.

Esta é a aparência da equação Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI com unidades.

Esta é a aparência da equação Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI.

0.5345Edit=(211.78.9E-121.6E-191E+16Edit)(0.76Edit+1.45Edit)
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Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI Solução

Siga nossa solução passo a passo sobre como calcular Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI?

Primeiro passo Considere a fórmula
xdD=(2[Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum][Charge-e]NA)(Ø0+Vds)
Próxima Etapa Substituir valores de variáveis
xdD=(2[Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum][Charge-e]1E+161/cm³)(0.76V+1.45V)
Próxima Etapa Valores substitutos de constantes
xdD=(211.78.9E-12F/m1.6E-19C1E+161/cm³)(0.76V+1.45V)
Próxima Etapa Converter unidades
xdD=(211.78.9E-12F/m1.6E-19C1E+221/m³)(0.76V+1.45V)
Próxima Etapa Prepare-se para avaliar
xdD=(211.78.9E-121.6E-191E+22)(0.76+1.45)
Próxima Etapa Avalie
xdD=5.34466520692296E-07m
Próxima Etapa Converter para unidade de saída
xdD=0.534466520692296μm
Último passo Resposta de arredondamento
xdD=0.5345μm

Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI Fórmula Elementos

Variáveis
Constantes
Funções
Profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno
A profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno é definida como a extensão da região de esgotamento no material semicondutor próximo ao terminal de dreno.
Símbolo: xdD
Medição: ComprimentoUnidade: μm
Observação: O valor deve ser maior que 0.
Concentração do aceitante
Concentração do aceitador refere-se à concentração de átomos dopantes aceitadores em um material semicondutor.
Símbolo: NA
Medição: Concentração de PortadoresUnidade: 1/cm³
Observação: O valor deve ser maior que 0.
Tensão interna de junção
A tensão incorporada na junção é definida como a tensão que existe através de uma junção semicondutora em equilíbrio térmico, onde nenhuma tensão externa é aplicada.
Símbolo: Ø0
Medição: Potencial elétricoUnidade: V
Observação: O valor deve ser maior que 0.
Drenar para Potencial de Fonte
Dreno para a fonte O potencial é o potencial entre o dreno e a fonte.
Símbolo: Vds
Medição: Potencial elétricoUnidade: V
Observação: O valor deve ser maior que 0.
Permissividade do silício
A permissividade do silício mede sua capacidade de armazenar energia elétrica em um campo elétrico, vital na tecnologia de semicondutores.
Símbolo: [Permitivity-silicon]
Valor: 11.7
Permissividade do vácuo
A permissividade do vácuo é uma constante física fundamental que descreve a capacidade do vácuo de permitir a transmissão de linhas de campo elétrico.
Símbolo: [Permitivity-vacuum]
Valor: 8.85E-12 F/m
Carga do elétron
A carga do elétron é uma constante física fundamental, representando a carga elétrica transportada por um elétron, que é a partícula elementar com carga elétrica negativa.
Símbolo: [Charge-e]
Valor: 1.60217662E-19 C
sqrt
Uma função de raiz quadrada é uma função que recebe um número não negativo como entrada e retorna a raiz quadrada do número de entrada fornecido.
Sintaxe: sqrt(Number)

Outras fórmulas na categoria Otimização de materiais VLSI

​Ir Coeficiente de Efeito Corporal
γ=modu̲s(Vt-Vt0Φs+(Vsb)-Φs)
​Ir Carga do canal
Qch=Cg(Vgc-Vt)
​Ir Tensão Crítica
Vx=ExEch
​Ir Coeficiente DIBL
η=Vt0-VtVds

Como avaliar Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI?

O avaliador Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI usa P-n Junction Depletion Depth with Drain = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentração do aceitante))*(Tensão interna de junção+Drenar para Potencial de Fonte)) para avaliar Profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno, A fórmula VLSI de profundidade de esgotamento da junção PN com dreno é definida como a extensão da região de esgotamento no material semicondutor próximo ao terminal de dreno. Profundidade de esgotamento da junção Pn com dreno é denotado pelo símbolo xdD.

Como avaliar Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI usando este avaliador online? Para usar este avaliador online para Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI, insira Concentração do aceitante (NA), Tensão interna de junção 0) & Drenar para Potencial de Fonte (Vds) e clique no botão calcular.

FAQs sobre Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI

Qual é a fórmula para encontrar Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI?
A fórmula de Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI é expressa como P-n Junction Depletion Depth with Drain = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentração do aceitante))*(Tensão interna de junção+Drenar para Potencial de Fonte)). Aqui está um exemplo: 534466.5 = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*1E+22))*(0.76+1.45)).
Como calcular Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI?
Com Concentração do aceitante (NA), Tensão interna de junção 0) & Drenar para Potencial de Fonte (Vds) podemos encontrar Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI usando a fórmula - P-n Junction Depletion Depth with Drain = sqrt(((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum])/([Charge-e]*Concentração do aceitante))*(Tensão interna de junção+Drenar para Potencial de Fonte)). Esta fórmula também usa funções Permissividade do silício, Permissividade do vácuo, Carga do elétron constante(s) e Raiz quadrada (sqrt).
O Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI pode ser negativo?
Não, o Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI, medido em Comprimento não pode ser negativo.
Qual unidade é usada para medir Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI?
Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI geralmente é medido usando Micrômetro[μm] para Comprimento. Metro[μm], Milímetro[μm], Quilômetro[μm] são as poucas outras unidades nas quais Profundidade de esgotamento da junção PN com dreno VLSI pode ser medido.
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