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Fórmula Dimensão crítica

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A dimensão crítica na fabricação de semicondutores refere-se ao menor tamanho de recurso ou ao menor tamanho mensurável em um determinado processo. Verifique FAQs

CD = k 1 \cdot \frac{λ l}{NA}

CD - Dimensão crítica?k₁ - Constante Dependente do Processo?λ_l - Comprimento de onda em fotolitografia?NA - Abertura numerica?

Exemplo de Dimensão crítica

Com valores

Com unidades

Apenas exemplo

Esta é a aparência da equação Dimensão crítica com valores.

Esta é a aparência da equação Dimensão crítica com unidades.

Esta é a aparência da equação Dimensão crítica.

485.1883 = 1.56 \cdot \frac{223}{0.717}

485.1883nm = 1.56 \cdot \frac{223nm}{0.717}

485.1883 = 1.56 \cdot \frac{223}{0.717}

Dica: Use o ícone de lápis ( Pencil

) acima para editar valores de entrada e unidades.

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Dimensão crítica Solução

Siga nossa solução passo a passo sobre como calcular Dimensão crítica?

Primeiro passo Considere a fórmula

CD = k 1 \cdot \frac{λ l}{NA}

Próxima Etapa Substituir valores de variáveis

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{223nm}{0.717}

Próxima Etapa Converter unidades

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{2.2E-7m}{0.717}

Próxima Etapa Prepare-se para avaliar

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{2.2E-7}{0.717}

Próxima Etapa Avalie

∴

CD = 4.85188284518829E-07m

Próxima Etapa Converter para unidade de saída

∴

CD = 485.188284518829nm

Último passo Resposta de arredondamento

∴

CD = 485.1883nm

Dimensão crítica Fórmula Elementos

Variáveis

Dimensão crítica

A dimensão crítica na fabricação de semicondutores refere-se ao menor tamanho de recurso ou ao menor tamanho mensurável em um determinado processo.

Símbolo: CD

Medição: ComprimentoUnidade: nm

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Dimensão crítica

Constante Dependente do Processo

Constante Dependente do Processo refere-se a um parâmetro ou valor que caracteriza um aspecto específico do processo de fabricação e tem um impacto significativo no desempenho de dispositivos semicondutores.

Símbolo: k₁

Medição: NAUnidade: Unitless

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Constante Dependente do Processo

Comprimento de onda em fotolitografia

Comprimento de onda em fotolitografia refere-se à faixa específica de radiação eletromagnética empregada para padronizar wafers semicondutores durante o processo de fabricação de semicondutores.

Símbolo: λ_l

Medição: Comprimento de ondaUnidade: nm

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Comprimento de onda em fotolitografia

Abertura numerica

A abertura numérica de um sistema óptico é um parâmetro usado em óptica para descrever a capacidade de um sistema óptico. No contexto da fabricação de semicondutores e fotolitografia.

Símbolo: NA

Medição: NAUnidade: Unitless

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Abertura numerica

Outras fórmulas na categoria Fabricação de IC MOS

Ir Efeito Corporal no MOSFET

V t = V th + γ \cdot (\sqrt{2 \cdot Φ f + V bs} - \sqrt{2 \cdot Φ f})

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Como avaliar Dimensão crítica?

O avaliador Dimensão crítica usa Critical Dimension = Constante Dependente do Processo*Comprimento de onda em fotolitografia/Abertura numerica para avaliar Dimensão crítica, A Dimensão Crítica refere-se à menor dimensão ou tamanho de recurso que determina o desempenho e a funcionalidade do circuito. É crucial para definir a resolução e precisão do processo de fabricação. Dimensão crítica é denotado pelo símbolo CD.

Como avaliar Dimensão crítica usando este avaliador online? Para usar este avaliador online para Dimensão crítica, insira Constante Dependente do Processo (k₁), Comprimento de onda em fotolitografia (λ_l) & Abertura numerica (NA) e clique no botão calcular.

FAQs sobre Dimensão crítica

Qual é a fórmula para encontrar Dimensão crítica?

A fórmula de Dimensão crítica é expressa como Critical Dimension = Constante Dependente do Processo*Comprimento de onda em fotolitografia/Abertura numerica. Aqui está um exemplo: 4.9E+11 = 1.56*2.23E-07/0.717.

Como calcular Dimensão crítica?

Com Constante Dependente do Processo (k₁), Comprimento de onda em fotolitografia (λ_l) & Abertura numerica (NA) podemos encontrar Dimensão crítica usando a fórmula - Critical Dimension = Constante Dependente do Processo*Comprimento de onda em fotolitografia/Abertura numerica.

O Dimensão crítica pode ser negativo?

Não, o Dimensão crítica, medido em Comprimento não pode ser negativo.

Qual unidade é usada para medir Dimensão crítica?

Dimensão crítica geralmente é medido usando Nanômetro[nm] para Comprimento. Metro[nm], Milímetro[nm], Quilômetro[nm] são as poucas outras unidades nas quais Dimensão crítica pode ser medido.

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