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Fórmula Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI

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A capacitância de óxido após a escala completa é referida à nova capacitância após a redução das dimensões do MOSFET pela escala completa. Verifique FAQs

C oxide' = C oxide \cdot Sf

C_oxide' - Capacitância de óxido após escala completa?C_oxide - Capacitância de Óxido por Unidade de Área?Sf - Fator de escala?

Exemplo de Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI

Com valores

Com unidades

Apenas exemplo

Esta é a aparência da equação Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI com valores.

Esta é a aparência da equação Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI com unidades.

Esta é a aparência da equação Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI.

0.1054 = 0.0703 \cdot 1.5

0.1054μF/cm² = 0.0703μF/cm² \cdot 1.5

0.1054 = 0.0703 \cdot 1.5

Dica: Use o ícone de lápis ( Pencil

) acima para editar valores de entrada e unidades.

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Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI Solução

Siga nossa solução passo a passo sobre como calcular Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI?

Primeiro passo Considere a fórmula

C oxide' = C oxide \cdot Sf

Próxima Etapa Substituir valores de variáveis

∴

C oxide' = 0.0703μF/cm² \cdot 1.5

Próxima Etapa Converter unidades

∴

C oxide' = 0.0007F/m² \cdot 1.5

Próxima Etapa Prepare-se para avaliar

∴

C oxide' = 0.0007 \cdot 1.5

Próxima Etapa Avalie

∴

C oxide' = 0.0010545F/m²

Próxima Etapa Converter para unidade de saída

∴

C oxide' = 0.10545μF/cm²

Último passo Resposta de arredondamento

∴

C oxide' = 0.1054μF/cm²

Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI Fórmula Elementos

Variáveis

Capacitância de óxido após escala completa

A capacitância de óxido após a escala completa é referida à nova capacitância após a redução das dimensões do MOSFET pela escala completa.

Símbolo: C_oxide'

Medição: Capacitância de óxido por unidade de áreaUnidade: μF/cm²

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Capacitância de óxido após escala completa

Capacitância de Óxido por Unidade de Área

A capacitância de óxido por unidade de área é definida como a capacitância por unidade de área da camada isolante de óxido que separa a porta de metal do material semicondutor.

Símbolo: C_oxide

Medição: Capacitância de óxido por unidade de áreaUnidade: μF/cm²

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Capacitância de Óxido por Unidade de Área

Fator de escala

O fator de escala é definido como a razão pela qual as dimensões do transistor são alteradas durante o processo de projeto.

Símbolo: Sf

Medição: NAUnidade: Unitless

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Fator de escala

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Como avaliar Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI?

O avaliador Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI usa Oxide Capacitance after Full Scaling = Capacitância de Óxido por Unidade de Área*Fator de escala para avaliar Capacitância de óxido após escala completa, A fórmula VLSI de capacitância de óxido após escala completa é definida como a nova capacitância após a redução das dimensões do MOSFET pela escala completa. Capacitância de óxido após escala completa é denotado pelo símbolo C_oxide'.

Como avaliar Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI usando este avaliador online? Para usar este avaliador online para Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI, insira Capacitância de Óxido por Unidade de Área (C_oxide) & Fator de escala (Sf) e clique no botão calcular.

FAQs sobre Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI

Qual é a fórmula para encontrar Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI?

A fórmula de Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI é expressa como Oxide Capacitance after Full Scaling = Capacitância de Óxido por Unidade de Área*Fator de escala. Aqui está um exemplo: 10.545 = 0.000703*1.5.

Como calcular Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI?

Com Capacitância de Óxido por Unidade de Área (C_oxide) & Fator de escala (Sf) podemos encontrar Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI usando a fórmula - Oxide Capacitance after Full Scaling = Capacitância de Óxido por Unidade de Área*Fator de escala.

O Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI pode ser negativo?

Não, o Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI, medido em Capacitância de óxido por unidade de área não pode ser negativo.

Qual unidade é usada para medir Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI?

Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI geralmente é medido usando Microfarad por centímetro quadrado[μF/cm²] para Capacitância de óxido por unidade de área. Farad por metro quadrado[μF/cm²], Nanofarad por centímetro quadrado[μF/cm²], Microfarad por Milímetro Quadrado[μF/cm²] são as poucas outras unidades nas quais Capacitância de Óxido após Full Scaling VLSI pode ser medido.

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