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Fórmula Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI

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A capacitância de óxido após a escala de tensão refere-se à capacitância associada à camada de óxido entre a porta de metal e o substrato depois que o dispositivo é reduzido pela escala de tensão. Verifique FAQs

C ox(vs)' = Sf \cdot C oxide

C_ox(vs)' - Capacitância de óxido após escala de tensão?Sf - Fator de escala?C_oxide - Capacitância de Óxido por Unidade de Área?

Exemplo de Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI

Com valores

Com unidades

Apenas exemplo

Esta é a aparência da equação Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI com valores.

Esta é a aparência da equação Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI com unidades.

Esta é a aparência da equação Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI.

105.45 = 1.5 \cdot 0.0703

105.45nF/cm² = 1.5 \cdot 0.0703μF/cm²

105.45 = 1.5 \cdot 0.0703

Dica: Use o ícone de lápis ( Pencil

) acima para editar valores de entrada e unidades.

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Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI Solução

Siga nossa solução passo a passo sobre como calcular Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI?

Primeiro passo Considere a fórmula

C ox(vs)' = Sf \cdot C oxide

Próxima Etapa Substituir valores de variáveis

∴

C ox(vs)' = 1.5 \cdot 0.0703μF/cm²

Próxima Etapa Converter unidades

∴

C ox(vs)' = 1.5 \cdot 0.0007F/m²

Próxima Etapa Prepare-se para avaliar

∴

C ox(vs)' = 1.5 \cdot 0.0007

Próxima Etapa Avalie

∴

C ox(vs)' = 0.0010545F/m²

Último passo Converter para unidade de saída

∴

C ox(vs)' = 105.45nF/cm²

Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI Fórmula Elementos

Variáveis

Capacitância de óxido após escala de tensão

Símbolo: C_ox(vs)'

Medição: Capacitância de óxido por unidade de áreaUnidade: nF/cm²

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Capacitância de óxido após escala de tensão

Fator de escala

O fator de escala é definido como a razão pela qual as dimensões do transistor são alteradas durante o processo de projeto.

Símbolo: Sf

Medição: NAUnidade: Unitless

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Fator de escala

Capacitância de Óxido por Unidade de Área

A capacitância de óxido por unidade de área é definida como a capacitância por unidade de área da camada isolante de óxido que separa a porta de metal do material semicondutor.

Símbolo: C_oxide

Medição: Capacitância de óxido por unidade de áreaUnidade: μF/cm²

Observação: O valor deve ser maior que 0.

Fórmulas para encontrar Capacitância de Óxido por Unidade de Área

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Como avaliar Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI?

O avaliador Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI usa Oxide capacitance after voltage scaling = Fator de escala*Capacitância de Óxido por Unidade de Área para avaliar Capacitância de óxido após escala de tensão, A fórmula VLSI de Capacitância de Óxido após Escala de Tensão é definida como a capacitância associada à camada de óxido entre a porta de metal e o substrato depois que o dispositivo é reduzido pela escala de tensão. Capacitância de óxido após escala de tensão é denotado pelo símbolo C_ox(vs)'.

Como avaliar Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI usando este avaliador online? Para usar este avaliador online para Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI, insira Fator de escala (Sf) & Capacitância de Óxido por Unidade de Área (C_oxide) e clique no botão calcular.

FAQs sobre Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI

Qual é a fórmula para encontrar Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI?

A fórmula de Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI é expressa como Oxide capacitance after voltage scaling = Fator de escala*Capacitância de Óxido por Unidade de Área. Aqui está um exemplo: 1.1E+7 = 1.5*0.000703.

Como calcular Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI?

Com Fator de escala (Sf) & Capacitância de Óxido por Unidade de Área (C_oxide) podemos encontrar Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI usando a fórmula - Oxide capacitance after voltage scaling = Fator de escala*Capacitância de Óxido por Unidade de Área.

O Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI pode ser negativo?

Não, o Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI, medido em Capacitância de óxido por unidade de área não pode ser negativo.

Qual unidade é usada para medir Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI?

Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI geralmente é medido usando Nanofarad por centímetro quadrado[nF/cm²] para Capacitância de óxido por unidade de área. Farad por metro quadrado[nF/cm²], Microfarad por centímetro quadrado[nF/cm²], Microfarad por Milímetro Quadrado[nF/cm²] são as poucas outras unidades nas quais Capacitância de Óxido após Escala de Tensão VLSI pode ser medido.

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