Formuła Parametr procesu produkcyjnego NMOS

Fx Kopiuj
LaTeX Kopiuj
Parametrem procesu produkcyjnego jest proces rozpoczynający się od utlenienia podłoża krzemowego, w którym na jego powierzchni osadza się stosunkowo gruba warstwa tlenku. Sprawdź FAQs
γ=2[Charge-e]NP[Permitivity-vacuum]Cox
γ - Parametr procesu produkcyjnego?NP - Stężenie domieszkowania substratu P?Cox - Pojemność tlenkowa?[Charge-e] - Ładunek elektronu?[Permitivity-vacuum] - Przenikalność próżni?

Przykład Parametr procesu produkcyjnego NMOS

Z wartościami
Z jednostkami
Tylko przykład

Oto jak równanie Parametr procesu produkcyjnego NMOS wygląda jak z Wartościami.

Oto jak równanie Parametr procesu produkcyjnego NMOS wygląda jak z Jednostkami.

Oto jak równanie Parametr procesu produkcyjnego NMOS wygląda jak.

204.2049Edit=21.6E-196E+16Edit8.9E-122.02Edit
Rozwiązanie
Kopiuj
Resetowanie
Udział
Jesteś tutaj -
HomeIcon Dom » Category Inżynieria » Category Elektronika » Category Elektronika analogowa » fx Parametr procesu produkcyjnego NMOS

Parametr procesu produkcyjnego NMOS Rozwiązanie

Postępuj zgodnie z naszym rozwiązaniem krok po kroku, jak obliczyć Parametr procesu produkcyjnego NMOS?

Pierwszy krok Rozważ formułę
γ=2[Charge-e]NP[Permitivity-vacuum]Cox
Następny krok Zastępcze wartości zmiennych
γ=2[Charge-e]6E+161/cm³[Permitivity-vacuum]2.02μF
Następny krok Zastępcze wartości stałych
γ=21.6E-19C6E+161/cm³8.9E-12F/m2.02μF
Następny krok Konwersja jednostek
γ=21.6E-19C6E+221/m³8.9E-12F/m2E-6F
Następny krok Przygotuj się do oceny
γ=21.6E-196E+228.9E-122E-6
Następny krok Oceniać
γ=204.204864690003
Ostatni krok Zaokrąglona odpowiedź
γ=204.2049

Parametr procesu produkcyjnego NMOS Formuła Elementy

Zmienne
Stałe
Funkcje
Parametr procesu produkcyjnego
Parametrem procesu produkcyjnego jest proces rozpoczynający się od utlenienia podłoża krzemowego, w którym na jego powierzchni osadza się stosunkowo gruba warstwa tlenku.
Symbol: γ
Pomiar: NAJednostka: Unitless
Notatka: Wartość może być dodatnia lub ujemna.
Stężenie domieszkowania substratu P
Stężenie domieszkowania substratu P to liczba zanieczyszczeń dodanych do substratu. Jest to całkowite stężenie jonów akceptorowych.
Symbol: NP
Pomiar: Koncentracja nośnikówJednostka: 1/cm³
Notatka: Wartość może być dodatnia lub ujemna.
Pojemność tlenkowa
Pojemność tlenkowa jest ważnym parametrem wpływającym na wydajność urządzeń MOS, takim jak szybkość i pobór mocy układów scalonych.
Symbol: Cox
Pomiar: PojemnośćJednostka: μF
Notatka: Wartość może być dodatnia lub ujemna.
Ładunek elektronu
Ładunek elektronu jest podstawową stałą fizyczną, reprezentującą ładunek elektryczny przenoszony przez elektron, będący cząstką elementarną o ujemnym ładunku elektrycznym.
Symbol: [Charge-e]
Wartość: 1.60217662E-19 C
Przenikalność próżni
Przepuszczalność próżni jest podstawową stałą fizyczną opisującą zdolność próżni do przenoszenia linii pola elektrycznego.
Symbol: [Permitivity-vacuum]
Wartość: 8.85E-12 F/m
sqrt
Funkcja pierwiastka kwadratowego to funkcja, która przyjmuje jako dane wejściowe liczbę nieujemną i zwraca pierwiastek kwadratowy podanej liczby wejściowej.
Składnia: sqrt(Number)

Inne formuły w kategorii Ulepszenie kanału N

​Iść Prędkość dryfu elektronu kanału w tranzystorze NMOS
vd=μnEL
​Iść NMOS jako rezystancja liniowa
rDS=LμnCoxWc(Vgs-VT)
​Iść Prąd wchodzący do zacisku drenu NMOS przy danym napięciu źródła bramki
Id=k'nWcL((Vgs-VT)Vds-12Vds2)
​Iść Prąd wchodzący do drenu-źródła w regionie triody NMOS
Id=k'nWcL((Vgs-VT)Vds-12(Vds)2)

Jak ocenić Parametr procesu produkcyjnego NMOS?

Ewaluator Parametr procesu produkcyjnego NMOS używa Fabrication Process Parameter = sqrt(2*[Charge-e]*Stężenie domieszkowania substratu P*[Permitivity-vacuum])/Pojemność tlenkowa do oceny Parametr procesu produkcyjnego, Parametr procesu wytwarzania NMOS to proces rozpoczynający się od utleniania podłoża silikonowego, w którym na powierzchni osadza się stosunkowo gruba warstwa tlenku. Parametr procesu produkcyjnego jest oznaczona symbolem γ.

Jak ocenić Parametr procesu produkcyjnego NMOS za pomocą tego ewaluatora online? Aby skorzystać z tego narzędzia do oceny online dla Parametr procesu produkcyjnego NMOS, wpisz Stężenie domieszkowania substratu P (NP) & Pojemność tlenkowa (Cox) i naciśnij przycisk Oblicz.

FAQs NA Parametr procesu produkcyjnego NMOS

Jaki jest wzór na znalezienie Parametr procesu produkcyjnego NMOS?
Formuła Parametr procesu produkcyjnego NMOS jest wyrażona jako Fabrication Process Parameter = sqrt(2*[Charge-e]*Stężenie domieszkowania substratu P*[Permitivity-vacuum])/Pojemność tlenkowa. Oto przykład: 204.2049 = sqrt(2*[Charge-e]*6E+22*[Permitivity-vacuum])/2.02E-06.
Jak obliczyć Parametr procesu produkcyjnego NMOS?
Dzięki Stężenie domieszkowania substratu P (NP) & Pojemność tlenkowa (Cox) możemy znaleźć Parametr procesu produkcyjnego NMOS za pomocą formuły - Fabrication Process Parameter = sqrt(2*[Charge-e]*Stężenie domieszkowania substratu P*[Permitivity-vacuum])/Pojemność tlenkowa. W tej formule używane są także funkcje Ładunek elektronu, Przenikalność próżni stała(e) i Pierwiastek kwadratowy (sqrt).
Copied!