FormulaDen.com

Fizyka Chemia Matematyka Inżynieria chemiczna Cywilny Elektryczny Elektronika Elektronika i oprzyrządowanie Inżynieria materiałowa Mechaniczny Inżynieria produkcji Budżetowy Zdrowie

Formuła Grubość warstwy tlenku

Fx Kopiuj

LaTeX Kopiuj

Grubość warstwy tlenku jest określana podczas procesu technologicznego stosowanego do wytwarzania MOSFET-u. Sprawdź FAQs

t ox = ε ox \cdot W g \cdot \frac{L g}{C in}

t_ox - Grubość warstwy tlenku?ε_ox - Przenikalność warstwy tlenkowej?W_g - Szerokość bramy?L_g - Długość bramy?C_in - Pojemność bramki wejściowej?

Przykład Grubość warstwy tlenku

Z wartościami

Z jednostkami

Tylko przykład

Oto jak równanie Grubość warstwy tlenku wygląda jak z Wartościami.

Oto jak równanie Grubość warstwy tlenku wygląda jak z Jednostkami.

Oto jak równanie Grubość warstwy tlenku wygląda jak.

4.9797 = 149.79 \cdot 0.285 \cdot \frac{7}{60.01}

4.9797mm = 149.79μF/mm \cdot 0.285mm \cdot \frac{7mm}{60.01μF}

4.9797 = 149.79 \cdot 0.285 \cdot \frac{7}{60.01}

Wskazówka: Użyj ikony ołówka ( Pencil

) powyżej, aby edytować wartości wejściowe i jednostki.

Oblicz

Przelicz

Rozwiązanie

Kopiuj

Resetowanie

Udział

Jesteś tutaj -

Dom » Category

Inżynieria » Category

Elektronika » Category

Projektowanie i zastosowania CMOS » fx Grubość warstwy tlenku

Grubość warstwy tlenku Rozwiązanie

Postępuj zgodnie z naszym rozwiązaniem krok po kroku, jak obliczyć Grubość warstwy tlenku?

Pierwszy krok Rozważ formułę

t ox = ε ox \cdot W g \cdot \frac{L g}{C in}

Następny krok Zastępcze wartości zmiennych

∴

t ox = 149.79μF/mm \cdot 0.285mm \cdot \frac{7mm}{60.01μF}

Następny krok Konwersja jednostek

∴

t ox = 0.1498F/m \cdot 0.0003m \cdot \frac{0.007m}{6E-5F}

Następny krok Przygotuj się do oceny

∴

t ox = 0.1498 \cdot 0.0003 \cdot \frac{0.007}{6E-5}

Następny krok Oceniać

∴

t ox = 0.00497968755207465m

Następny krok Konwertuj na jednostkę wyjściową

∴

t ox = 4.97968755207465mm

Ostatni krok Zaokrąglona odpowiedź

∴

t ox = 4.9797mm

Grubość warstwy tlenku Formuła Elementy

Zmienne

Grubość warstwy tlenku

Grubość warstwy tlenku jest określana podczas procesu technologicznego stosowanego do wytwarzania MOSFET-u.

Symbol: t_ox

Pomiar: DługośćJednostka: mm

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Grubość warstwy tlenku

Przenikalność warstwy tlenkowej

Przenikalność warstwy tlenkowej definiuje się jako zdolność substancji do magazynowania energii elektrycznej w polu elektrycznym.

Symbol: ε_ox

Pomiar: przenikalnośćJednostka: μF/mm

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Przenikalność warstwy tlenkowej

Szerokość bramy

Szerokość bramki odnosi się do odległości pomiędzy krawędzią metalowej elektrody bramki a sąsiadującym materiałem półprzewodnikowym w CMOS.

Symbol: W_g

Pomiar: DługośćJednostka: mm

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Szerokość bramy

Długość bramy

Długość bramy to pomiar lub zasięg czegoś od końca do końca.

Symbol: L_g

Pomiar: DługośćJednostka: mm

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Długość bramy

Pojemność bramki wejściowej

Pojemność bramki wejściowej w CMOS odnosi się do pojemności pomiędzy zaciskami wejściowymi obwodu CMOS a potencjałem odniesienia (zwykle masą).

Symbol: C_in

Pomiar: PojemnośćJednostka: μF

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Pojemność bramki wejściowej

Inne formuły w kategorii Charakterystyka obwodu CMOS

Iść Krytyczne napięcie CMOS

V c = E c \cdot L

Iść Średnia wolna ścieżka CMOS

L = \frac{V c}{E c}

Iść Szerokość dyfuzji źródła

W = \frac{A s}{D s}

Iść Obszar dyfuzji źródła

A s = D s \cdot W

Zobacz więcej OpenImg

Jak ocenić Grubość warstwy tlenku?

Ewaluator Grubość warstwy tlenku używa Oxide Layer Thickness = Przenikalność warstwy tlenkowej*Szerokość bramy*Długość bramy/Pojemność bramki wejściowej do oceny Grubość warstwy tlenku, Wzór na grubość warstwy tlenku definiuje się jako grubość warstwy tlenku krzemu, która zapewnia tę samą wydajność elektryczną. Grubość warstwy tlenku jest oznaczona symbolem t_ox.

Jak ocenić Grubość warstwy tlenku za pomocą tego ewaluatora online? Aby skorzystać z tego narzędzia do oceny online dla Grubość warstwy tlenku, wpisz Przenikalność warstwy tlenkowej (ε_ox), Szerokość bramy (W_g), Długość bramy (L_g) & Pojemność bramki wejściowej (C_in) i naciśnij przycisk Oblicz.

FAQs NA Grubość warstwy tlenku

Jaki jest wzór na znalezienie Grubość warstwy tlenku?

Formuła Grubość warstwy tlenku jest wyrażona jako Oxide Layer Thickness = Przenikalność warstwy tlenkowej*Szerokość bramy*Długość bramy/Pojemność bramki wejściowej. Oto przykład: 4.986669 = 0.14979*0.000285*0.007/6.001E-05.

Jak obliczyć Grubość warstwy tlenku?

Dzięki Przenikalność warstwy tlenkowej (ε_ox), Szerokość bramy (W_g), Długość bramy (L_g) & Pojemność bramki wejściowej (C_in) możemy znaleźć Grubość warstwy tlenku za pomocą formuły - Oxide Layer Thickness = Przenikalność warstwy tlenkowej*Szerokość bramy*Długość bramy/Pojemność bramki wejściowej.

Czy Grubość warstwy tlenku może być ujemna?

NIE, Grubość warstwy tlenku zmierzona w Długość Nie mogę będzie ujemna.

Jaka jednostka jest używana do pomiaru Grubość warstwy tlenku?

Wartość Grubość warstwy tlenku jest zwykle mierzona przy użyciu zmiennej Milimetr[mm] dla wartości Długość. Metr[mm], Kilometr[mm], Decymetr[mm] to kilka innych jednostek, w których można zmierzyć Grubość warstwy tlenku.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!

: Wartość
: Jednostka

Formuła Grubość warstwy tlenku

Przykład Grubość warstwy tlenku

Grubość warstwy tlenku Rozwiązanie

Grubość warstwy tlenku Formuła Elementy

Inne formuły w kategorii Charakterystyka obwodu CMOS

Jak ocenić Grubość warstwy tlenku?

FAQs NA Grubość warstwy tlenku

Variable Name