FormulaDen.com

Fizyka Chemia Matematyka Inżynieria chemiczna Cywilny Elektryczny Elektronika Elektronika i oprzyrządowanie Inżynieria materiałowa Mechaniczny Inżynieria produkcji Budżetowy Zdrowie

Formuła Głębia ostrości

Fx Kopiuj

LaTeX Kopiuj

Głębia ostrości jest krytycznym parametrem wpływającym na tolerancję na zmiany wysokości płytki półprzewodnikowej. Sprawdź FAQs

DOF = k 2 \cdot \frac{λ l}{{NA}^{2}}

DOF - Głębia ostrości?k₂ - Czynnik proporcjonalności?λ_l - Długość fali w fotolitografii?NA - Przysłona numeryczna?

Przykład Głębia ostrości

Z wartościami

Z jednostkami

Tylko przykład

Oto jak równanie Głębia ostrości wygląda jak z Wartościami.

Oto jak równanie Głębia ostrości wygląda jak z Jednostkami.

Oto jak równanie Głębia ostrości wygląda jak.

1.3013 = 3 \cdot \frac{223}{{0.717}^{2}}

1.3013μm = 3 \cdot \frac{223nm}{{0.717}^{2}}

1.3013 = 3 \cdot \frac{223}{{0.717}^{2}}

Wskazówka: Użyj ikony ołówka ( Pencil

) powyżej, aby edytować wartości wejściowe i jednostki.

Oblicz

Przelicz

Rozwiązanie

Kopiuj

Resetowanie

Udział

Jesteś tutaj -

Dom » Category

Inżynieria » Category

Elektronika » Category

Układy scalone (IC) » fx Głębia ostrości

Głębia ostrości Rozwiązanie

Postępuj zgodnie z naszym rozwiązaniem krok po kroku, jak obliczyć Głębia ostrości?

Pierwszy krok Rozważ formułę

DOF = k 2 \cdot \frac{λ l}{{NA}^{2}}

Następny krok Zastępcze wartości zmiennych

∴

DOF = 3 \cdot \frac{223nm}{{0.717}^{2}}

Następny krok Konwersja jednostek

∴

DOF = 3 \cdot \frac{2.2E-7m}{{0.717}^{2}}

Następny krok Przygotuj się do oceny

∴

DOF = 3 \cdot \frac{2.2E-7}{{0.717}^{2}}

Następny krok Oceniać

∴

DOF = 1.30133109247621E-06m

Następny krok Konwertuj na jednostkę wyjściową

∴

DOF = 1.30133109247621μm

Ostatni krok Zaokrąglona odpowiedź

∴

DOF = 1.3013μm

Głębia ostrości Formuła Elementy

Zmienne

Głębia ostrości

Głębia ostrości jest krytycznym parametrem wpływającym na tolerancję na zmiany wysokości płytki półprzewodnikowej.

Symbol: DOF

Pomiar: Długość faliJednostka: μm

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Głębia ostrości

Czynnik proporcjonalności

Współczynnik proporcjonalności to stała, która wiąże dwa kluczowe parametry: wymiar krytyczny (CD) i dawkę ekspozycji.

Symbol: k₂

Pomiar: NAJednostka: Unitless

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Czynnik proporcjonalności

Długość fali w fotolitografii

Długość fali w fotolitografii odnosi się do określonego zakresu promieniowania elektromagnetycznego wykorzystywanego do modelowania płytek półprzewodnikowych podczas procesu wytwarzania półprzewodników.

Symbol: λ_l

Pomiar: Długość faliJednostka: nm

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Długość fali w fotolitografii

Przysłona numeryczna

Apertura numeryczna układu optycznego to parametr używany w optyce do opisu zdolności układu optycznego. W kontekście produkcji półprzewodników i fotolitografii.

Symbol: NA

Pomiar: NAJednostka: Unitless

Notatka: Wartość powinna być większa niż 0.

Formuły do znalezienia Przysłona numeryczna

Inne formuły w kategorii Produkcja układów scalonych MOS

Iść Efekt ciała w MOSFET-ie

V t = V th + γ \cdot (\sqrt{2 \cdot Φ f + V bs} - \sqrt{2 \cdot Φ f})

Iść Częstotliwość wzmocnienia jedności MOSFET

f t = \frac{g m}{C gs + C gd}

Iść Prąd drenu MOSFET-u w obszarze nasycenia

I d = \frac{β}{2} \cdot {(V gs - V th)}^{2} \cdot (1 + λ i \cdot V ds)

Iść Rezystancja kanału

R ch = \frac{L t}{W t} \cdot \frac{1}{μ n \cdot Q on}

Zobacz więcej OpenImg

Jak ocenić Głębia ostrości?

Ewaluator Głębia ostrości używa Depth of Focus = Czynnik proporcjonalności*Długość fali w fotolitografii/(Przysłona numeryczna^2) do oceny Głębia ostrości, Głębokość ostrości definiuje się jako krytyczny parametr wpływający na tolerancję na zmiany wysokości płytki półprzewodnikowej. Jest to zakres odległości przed i za płaszczyzną ogniskowej, przy którym obiekty wydają się wystarczająco ostre na obrazie. Głębia ostrości jest oznaczona symbolem DOF.

Jak ocenić Głębia ostrości za pomocą tego ewaluatora online? Aby skorzystać z tego narzędzia do oceny online dla Głębia ostrości, wpisz Czynnik proporcjonalności (k₂), Długość fali w fotolitografii (λ_l) & Przysłona numeryczna (NA) i naciśnij przycisk Oblicz.

FAQs NA Głębia ostrości

Jaki jest wzór na znalezienie Głębia ostrości?

Formuła Głębia ostrości jest wyrażona jako Depth of Focus = Czynnik proporcjonalności*Długość fali w fotolitografii/(Przysłona numeryczna^2). Oto przykład: 1.3E+12 = 3*2.23E-07/(0.717^2).

Jak obliczyć Głębia ostrości?

Dzięki Czynnik proporcjonalności (k₂), Długość fali w fotolitografii (λ_l) & Przysłona numeryczna (NA) możemy znaleźć Głębia ostrości za pomocą formuły - Depth of Focus = Czynnik proporcjonalności*Długość fali w fotolitografii/(Przysłona numeryczna^2).

Czy Głębia ostrości może być ujemna?

NIE, Głębia ostrości zmierzona w Długość fali Nie mogę będzie ujemna.

Jaka jednostka jest używana do pomiaru Głębia ostrości?

Wartość Głębia ostrości jest zwykle mierzona przy użyciu zmiennej Mikrometr[μm] dla wartości Długość fali. Metr[μm], Megametr[μm], Kilometr[μm] to kilka innych jednostek, w których można zmierzyć Głębia ostrości.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!

: Wartość
: Jednostka

Formuła Głębia ostrości

Przykład Głębia ostrości

Głębia ostrości Rozwiązanie

Głębia ostrości Formuła Elementy

Inne formuły w kategorii Produkcja układów scalonych MOS

Jak ocenić Głębia ostrości?

FAQs NA Głębia ostrości

Variable Name