Lichaamseffect in NMOS Formule

Fx Kopiëren
LaTeX Kopiëren
Veranderingen in de drempelspanning kunnen worden veroorzaakt door verschillende factoren, waaronder veranderingen in temperatuur, blootstelling aan straling en veroudering. Controleer FAQs
ΔVth=VT+γ(2φf+VSB-2φf)
ΔVth - Verandering in drempelspanning?VT - Drempelspanning?γ - Fabricageprocesparameter?φf - Fysieke parameters?VSB - Spanning tussen Lichaam en Bron?

Lichaamseffect in NMOS Voorbeeld

Met waarden
Met eenheden
Slechts voorbeeld

Hier ziet u hoe de Lichaamseffect in NMOS-vergelijking eruit ziet als met waarden.

Hier ziet u hoe de Lichaamseffect in NMOS-vergelijking eruit ziet als met eenheden.

Hier ziet u hoe de Lichaamseffect in NMOS-vergelijking eruit ziet als.

37.2244Edit=1.82Edit+204Edit(213Edit+1.8Edit-213Edit)
Kopiëren
resetten
Deel
Je bent hier -
HomeIcon Thuis » Category Engineering » Category Elektronica » Category Analoge elektronica » fx Lichaamseffect in NMOS

Lichaamseffect in NMOS Oplossing

Volg onze stapsgewijze oplossing voor het berekenen van Lichaamseffect in NMOS?

Eerste stap Overweeg de formule
ΔVth=VT+γ(2φf+VSB-2φf)
Volgende stap Vervang waarden van variabelen
ΔVth=1.82V+204(213V+1.8V-213V)
Volgende stap Bereid je voor om te evalueren
ΔVth=1.82+204(213+1.8-213)
Volgende stap Evalueer
ΔVth=37.2244074665399V
Laatste stap Afrondingsantwoord
ΔVth=37.2244V

Lichaamseffect in NMOS Formule Elementen

Variabelen
Functies
Verandering in drempelspanning
Veranderingen in de drempelspanning kunnen worden veroorzaakt door verschillende factoren, waaronder veranderingen in temperatuur, blootstelling aan straling en veroudering.
Symbool: ΔVth
Meting: Elektrisch potentieelEenheid: V
Opmerking: Waarde kan positief of negatief zijn.
Drempelspanning
Drempelspanning, ook wel poortdrempelspanning of gewoon Vth genoemd, is een kritieke parameter bij de werking van veldeffecttransistors, die fundamentele componenten zijn in moderne elektronica.
Symbool: VT
Meting: Elektrisch potentieelEenheid: V
Opmerking: De waarde moet groter zijn dan 0.
Fabricageprocesparameter
De fabricageprocesparameter is het proces dat begint met de oxidatie van siliciumsubstraat waarbij een relatief dikke oxidelaag op het oppervlak wordt afgezet.
Symbool: γ
Meting: NAEenheid: Unitless
Opmerking: Waarde kan positief of negatief zijn.
Fysieke parameters
Fysieke parameters kunnen worden gebruikt om de toestand van een fysiek systeem te beschrijven, of om de manier te karakteriseren waarop het systeem reageert op verschillende stimuli of invoer.
Symbool: φf
Meting: Elektrisch potentieelEenheid: V
Opmerking: Waarde kan positief of negatief zijn.
Spanning tussen Lichaam en Bron
De spanning tussen lichaam en bron is belangrijk omdat deze een effect kan hebben op de veilige werking van elektronische apparaten.
Symbool: VSB
Meting: Elektrisch potentieelEenheid: V
Opmerking: Waarde kan positief of negatief zijn.
sqrt
Een vierkantswortelfunctie is een functie die een niet-negatief getal als invoer neemt en de vierkantswortel van het opgegeven invoergetal retourneert.
Syntaxis: sqrt(Number)

Andere formules in de categorie N-kanaalverbetering

​Gan Elektron driftsnelheid van kanaal in NMOS-transistor
vd=μnEL
​Gan NMOS als lineaire weerstand
rDS=LμnCoxWc(Vgs-VT)
​Gan Huidige ingangsafvoeraansluiting van NMOS gegeven poortbronspanning
Id=k'nWcL((Vgs-VT)Vds-12Vds2)
​Gan Huidige binnenkomende afvoerbron in triodegebied van NMOS
Id=k'nWcL((Vgs-VT)Vds-12(Vds)2)

Hoe Lichaamseffect in NMOS evalueren?

De beoordelaar van Lichaamseffect in NMOS gebruikt Change in Threshold Voltage = Drempelspanning+Fabricageprocesparameter*(sqrt(2*Fysieke parameters+Spanning tussen Lichaam en Bron)-sqrt(2*Fysieke parameters)) om de Verandering in drempelspanning, Het body-effect in NMOS verwijst naar de verandering in de transistordrempelspanning als gevolg van een spanningsverschil tussen de transistorbron en het lichaam, te evalueren. Verandering in drempelspanning wordt aangegeven met het symbool ΔVth.

Hoe kan ik Lichaamseffect in NMOS evalueren met behulp van deze online beoordelaar? Om deze online evaluator voor Lichaamseffect in NMOS te gebruiken, voert u Drempelspanning (VT), Fabricageprocesparameter (γ), Fysieke parameters f) & Spanning tussen Lichaam en Bron (VSB) in en klikt u op de knop Berekenen.

FAQs op Lichaamseffect in NMOS

Wat is de formule om Lichaamseffect in NMOS te vinden?
De formule van Lichaamseffect in NMOS wordt uitgedrukt als Change in Threshold Voltage = Drempelspanning+Fabricageprocesparameter*(sqrt(2*Fysieke parameters+Spanning tussen Lichaam en Bron)-sqrt(2*Fysieke parameters)). Hier is een voorbeeld: 37.22441 = 1.82+204*(sqrt(2*13+1.8)-sqrt(2*13)).
Hoe bereken je Lichaamseffect in NMOS?
Met Drempelspanning (VT), Fabricageprocesparameter (γ), Fysieke parameters f) & Spanning tussen Lichaam en Bron (VSB) kunnen we Lichaamseffect in NMOS vinden met behulp van de formule - Change in Threshold Voltage = Drempelspanning+Fabricageprocesparameter*(sqrt(2*Fysieke parameters+Spanning tussen Lichaam en Bron)-sqrt(2*Fysieke parameters)). Deze formule gebruikt ook de functie(s) van Vierkantswortel (sqrt).
Kan de Lichaamseffect in NMOS negatief zijn?
Ja, de Lichaamseffect in NMOS, gemeten in Elektrisch potentieel kan moet negatief zijn.
Welke eenheid wordt gebruikt om Lichaamseffect in NMOS te meten?
Lichaamseffect in NMOS wordt meestal gemeten met de Volt[V] voor Elektrisch potentieel. millivolt[V], Microvolt[V], Nanovolt[V] zijn de weinige andere eenheden waarin Lichaamseffect in NMOS kan worden gemeten.
Copied!