Lichaamseffect bij PMOS Formule

Fx Kopiëren
LaTeX Kopiëren
Veranderingen in de drempelspanning kunnen worden veroorzaakt door verschillende factoren, waaronder veranderingen in temperatuur, blootstelling aan straling en veroudering. Controleer FAQs
ΔVt=VT+γ(2φf+VSB-2φf)
ΔVt - Verandering in drempelspanning?VT - Drempelspanning?γ - Fabricageprocesparameter?φf - Fysieke parameters?VSB - Spanning tussen Lichaam en Bron?

Lichaamseffect bij PMOS Voorbeeld

Met waarden
Met eenheden
Slechts voorbeeld

Hier ziet u hoe de Lichaamseffect bij PMOS-vergelijking eruit ziet als met waarden.

Hier ziet u hoe de Lichaamseffect bij PMOS-vergelijking eruit ziet als met eenheden.

Hier ziet u hoe de Lichaamseffect bij PMOS-vergelijking eruit ziet als.

1.6005Edit=0.7Edit+0.4Edit(20.6Edit+10Edit-20.6Edit)
Kopiëren
resetten
Deel
Je bent hier -
HomeIcon Thuis » Category Engineering » Category Elektronica » Category Analoge elektronica » fx Lichaamseffect bij PMOS

Lichaamseffect bij PMOS Oplossing

Volg onze stapsgewijze oplossing voor het berekenen van Lichaamseffect bij PMOS?

Eerste stap Overweeg de formule
ΔVt=VT+γ(2φf+VSB-2φf)
Volgende stap Vervang waarden van variabelen
ΔVt=0.7V+0.4(20.6V+10V-20.6V)
Volgende stap Bereid je voor om te evalueren
ΔVt=0.7+0.4(20.6+10-20.6)
Volgende stap Evalueer
ΔVt=1.60047799645039V
Laatste stap Afrondingsantwoord
ΔVt=1.6005V

Lichaamseffect bij PMOS Formule Elementen

Variabelen
Functies
Verandering in drempelspanning
Veranderingen in de drempelspanning kunnen worden veroorzaakt door verschillende factoren, waaronder veranderingen in temperatuur, blootstelling aan straling en veroudering.
Symbool: ΔVt
Meting: Elektrisch potentieelEenheid: V
Opmerking: De waarde moet groter zijn dan 0.
Drempelspanning
Drempelspanning, ook wel poortdrempelspanning of gewoon Vth genoemd, is een kritieke parameter bij de werking van veldeffecttransistors, die fundamentele componenten zijn in moderne elektronica.
Symbool: VT
Meting: Elektrisch potentieelEenheid: V
Opmerking: De waarde moet groter zijn dan 0.
Fabricageprocesparameter
De fabricageprocesparameter is het proces dat begint met de oxidatie van siliciumsubstraat waarbij een relatief dikke oxidelaag op het oppervlak wordt afgezet.
Symbool: γ
Meting: NAEenheid: Unitless
Opmerking: Waarde kan positief of negatief zijn.
Fysieke parameters
Fysieke parameters kunnen worden gebruikt om de toestand van een fysiek systeem te beschrijven, of om de manier te karakteriseren waarop het systeem reageert op verschillende stimuli of invoer.
Symbool: φf
Meting: Elektrisch potentieelEenheid: V
Opmerking: Waarde kan positief of negatief zijn.
Spanning tussen Lichaam en Bron
De spanning tussen lichaam en bron is belangrijk omdat deze een effect kan hebben op de veilige werking van elektronische apparaten.
Symbool: VSB
Meting: Elektrisch potentieelEenheid: V
Opmerking: Waarde kan positief of negatief zijn.
sqrt
Een vierkantswortelfunctie is een functie die een niet-negatief getal als invoer neemt en de vierkantswortel van het opgegeven invoergetal retourneert.
Syntaxis: sqrt(Number)

Andere formules in de categorie P Kanaalverbetering

​Gan Afvoerstroom in triodegebied van PMOS-transistor
Id=k'pWL((VGS-modu̲s(VT))VDS-12(VDS)2)
​Gan Afvoerstroom in triodegebied van PMOS-transistor gegeven Vsd
Id=k'pWL(modu̲s(Vov)-12VDS)VDS
​Gan Afvoerstroom in verzadigingsgebied van PMOS-transistor
Ids=12k'pWL(VGS-modu̲s(VT))2
​Gan Afvoerstroom in verzadigingsgebied van PMOS-transistor gegeven Vov
Ids=12k'pWL(Vov)2

Hoe Lichaamseffect bij PMOS evalueren?

De beoordelaar van Lichaamseffect bij PMOS gebruikt Change in Threshold Voltage = Drempelspanning+Fabricageprocesparameter*(sqrt(2*Fysieke parameters+Spanning tussen Lichaam en Bron)-sqrt(2*Fysieke parameters)) om de Verandering in drempelspanning, Het Body-effect in PMOS verwijst naar de verandering in de drempelspanning van de transistor (V, te evalueren. Verandering in drempelspanning wordt aangegeven met het symbool ΔVt.

Hoe kan ik Lichaamseffect bij PMOS evalueren met behulp van deze online beoordelaar? Om deze online evaluator voor Lichaamseffect bij PMOS te gebruiken, voert u Drempelspanning (VT), Fabricageprocesparameter (γ), Fysieke parameters f) & Spanning tussen Lichaam en Bron (VSB) in en klikt u op de knop Berekenen.

FAQs op Lichaamseffect bij PMOS

Wat is de formule om Lichaamseffect bij PMOS te vinden?
De formule van Lichaamseffect bij PMOS wordt uitgedrukt als Change in Threshold Voltage = Drempelspanning+Fabricageprocesparameter*(sqrt(2*Fysieke parameters+Spanning tussen Lichaam en Bron)-sqrt(2*Fysieke parameters)). Hier is een voorbeeld: 1.600478 = 0.7+0.4*(sqrt(2*0.6+10)-sqrt(2*0.6)).
Hoe bereken je Lichaamseffect bij PMOS?
Met Drempelspanning (VT), Fabricageprocesparameter (γ), Fysieke parameters f) & Spanning tussen Lichaam en Bron (VSB) kunnen we Lichaamseffect bij PMOS vinden met behulp van de formule - Change in Threshold Voltage = Drempelspanning+Fabricageprocesparameter*(sqrt(2*Fysieke parameters+Spanning tussen Lichaam en Bron)-sqrt(2*Fysieke parameters)). Deze formule gebruikt ook de functie(s) van Vierkantswortel (sqrt).
Kan de Lichaamseffect bij PMOS negatief zijn?
Nee, de Lichaamseffect bij PMOS, gemeten in Elektrisch potentieel kan niet moet negatief zijn.
Welke eenheid wordt gebruikt om Lichaamseffect bij PMOS te meten?
Lichaamseffect bij PMOS wordt meestal gemeten met de Volt[V] voor Elektrisch potentieel. millivolt[V], Microvolt[V], Nanovolt[V] zijn de weinige andere eenheden waarin Lichaamseffect bij PMOS kan worden gemeten.
Copied!