Formula Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI

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La riduzione della tensione di soglia a canale corto è definita come una riduzione della tensione di soglia del MOSFET dovuta all'effetto del canale corto. Controlla FAQs
ΔVT0=2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]NA|2Φs|xjCoxide2L((1+2xdSxj-1)+(1+2xdDxj-1))
ΔVT0 - Riduzione della tensione di soglia a canale corto?NA - Concentrazione dell'accettore?Φs - Potenziale di superficie?xj - Profondità di giunzione?Coxide - Capacità di ossido per unità di area?L - Lunghezza del canale?xdS - Profondità di svuotamento della giunzione Pn con sorgente?xdD - Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio?[Charge-e] - Carica dell'elettrone?[Permitivity-silicon] - Permittività del silicio?[Permitivity-vacuum] - Permittività del vuoto?

Esempio di Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI

Con valori
Con unità
Unico esempio

Ecco come appare l'equazione Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI con Valori.

Ecco come appare l'equazione Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI con unità.

Ecco come appare l'equazione Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI.

0.4672Edit=21.6E-1911.78.9E-121E+16Edit|26.86Edit|2Edit0.0703Edit22.5Edit((1+20.314Edit2Edit-1)+(1+20.534Edit2Edit-1))
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Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI Soluzione

Segui la nostra soluzione passo passo su come calcolare Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI?

Primo passo Considera la formula
ΔVT0=2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]NA|2Φs|xjCoxide2L((1+2xdSxj-1)+(1+2xdDxj-1))
Passo successivo Valori sostitutivi delle variabili
ΔVT0=2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]1E+161/cm³|26.86V|2μm0.0703μF/cm²22.5μm((1+20.314μm2μm-1)+(1+20.534μm2μm-1))
Passo successivo Valori sostitutivi delle costanti
ΔVT0=21.6E-19C11.78.9E-12F/m1E+161/cm³|26.86V|2μm0.0703μF/cm²22.5μm((1+20.314μm2μm-1)+(1+20.534μm2μm-1))
Passo successivo Converti unità
ΔVT0=21.6E-19C11.78.9E-12F/m1E+221/m³|26.86V|2E-6m0.0007F/m²22.5E-6m((1+23.1E-7m2E-6m-1)+(1+25.3E-7m2E-6m-1))
Passo successivo Preparati a valutare
ΔVT0=21.6E-1911.78.9E-121E+22|26.86|2E-60.000722.5E-6((1+23.1E-72E-6-1)+(1+25.3E-72E-6-1))
Passo successivo Valutare
ΔVT0=0.467200582407994V
Ultimo passo Risposta arrotondata
ΔVT0=0.4672V

Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI Formula Elementi

Variabili
Costanti
Funzioni
Riduzione della tensione di soglia a canale corto
La riduzione della tensione di soglia a canale corto è definita come una riduzione della tensione di soglia del MOSFET dovuta all'effetto del canale corto.
Simbolo: ΔVT0
Misurazione: Potenziale elettricoUnità: V
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Concentrazione dell'accettore
La concentrazione dell'accettore si riferisce alla concentrazione degli atomi droganti dell'accettore in un materiale semiconduttore.
Simbolo: NA
Misurazione: Concentrazione del portatoreUnità: 1/cm³
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Potenziale di superficie
Il potenziale superficiale è un parametro chiave nella valutazione delle proprietà CC dei transistor a film sottile.
Simbolo: Φs
Misurazione: Potenziale elettricoUnità: V
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Profondità di giunzione
La profondità di giunzione è definita come la distanza dalla superficie di un materiale semiconduttore al punto in cui si verifica un cambiamento significativo nella concentrazione degli atomi droganti.
Simbolo: xj
Misurazione: LunghezzaUnità: μm
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Capacità di ossido per unità di area
La capacità di ossido per unità di area è definita come la capacità per unità di area dello strato di ossido isolante che separa il gate metallico dal materiale semiconduttore.
Simbolo: Coxide
Misurazione: Capacità di ossido per area unitariaUnità: μF/cm²
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Lunghezza del canale
La lunghezza del canale si riferisce alla lunghezza fisica del materiale semiconduttore tra i terminali di source e drain all'interno della struttura del transistor.
Simbolo: L
Misurazione: LunghezzaUnità: μm
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Profondità di svuotamento della giunzione Pn con sorgente
La profondità di esaurimento della giunzione Pn con sorgente è definita come la regione attorno a una giunzione pn in cui i portatori di carica sono stati esauriti a causa della formazione di un campo elettrico.
Simbolo: xdS
Misurazione: LunghezzaUnità: μm
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio
La profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio è definita come l'estensione della regione di svuotamento nel materiale semiconduttore vicino al terminale di drenaggio.
Simbolo: xdD
Misurazione: LunghezzaUnità: μm
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Carica dell'elettrone
La carica dell'elettrone è una costante fisica fondamentale, che rappresenta la carica elettrica trasportata da un elettrone, che è la particella elementare con una carica elettrica negativa.
Simbolo: [Charge-e]
Valore: 1.60217662E-19 C
Permittività del silicio
La permettività del silicio misura la sua capacità di immagazzinare energia elettrica in un campo elettrico, fondamentale nella tecnologia dei semiconduttori.
Simbolo: [Permitivity-silicon]
Valore: 11.7
Permittività del vuoto
La permettività del vuoto è una costante fisica fondamentale che descrive la capacità del vuoto di consentire la trasmissione delle linee del campo elettrico.
Simbolo: [Permitivity-vacuum]
Valore: 8.85E-12 F/m
sqrt
Una funzione radice quadrata è una funzione che accetta un numero non negativo come input e restituisce la radice quadrata del numero di input specificato.
Sintassi: sqrt(Number)
abs
Il valore assoluto di un numero è la sua distanza da zero sulla retta numerica. È sempre un valore positivo, poiché rappresenta la grandezza di un numero senza considerare la sua direzione.
Sintassi: abs(Number)

Altre formule nella categoria Ottimizzazione dei materiali VLSI

​va Coefficiente di effetto corporeo
γ=modu̲s(Vt-Vt0Φs+(Vsb)-Φs)
​va Channel Charge
Qch=Cg(Vgc-Vt)

Come valutare Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI?

Il valutatore Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI utilizza Short Channel Threshold Voltage Reduction = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentrazione dell'accettore*abs(2*Potenziale di superficie))*Profondità di giunzione)/(Capacità di ossido per unità di area*2*Lunghezza del canale)*((sqrt(1+(2*Profondità di svuotamento della giunzione Pn con sorgente)/Profondità di giunzione)-1)+(sqrt(1+(2*Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio)/Profondità di giunzione)-1)) per valutare Riduzione della tensione di soglia a canale corto, La formula VLSI per la riduzione della tensione di soglia a canale corto è definita come una riduzione della tensione di soglia del MOSFET dovuta all'effetto del canale corto. Riduzione della tensione di soglia a canale corto è indicato dal simbolo ΔVT0.

Come valutare Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI utilizzando questo valutatore online? Per utilizzare questo valutatore online per Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI, inserisci Concentrazione dell'accettore (NA), Potenziale di superficie s), Profondità di giunzione (xj), Capacità di ossido per unità di area (Coxide), Lunghezza del canale (L), Profondità di svuotamento della giunzione Pn con sorgente (xdS) & Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio (xdD) e premi il pulsante Calcola.

FAQs SU Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI

Qual è la formula per trovare Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI?
La formula di Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI è espressa come Short Channel Threshold Voltage Reduction = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentrazione dell'accettore*abs(2*Potenziale di superficie))*Profondità di giunzione)/(Capacità di ossido per unità di area*2*Lunghezza del canale)*((sqrt(1+(2*Profondità di svuotamento della giunzione Pn con sorgente)/Profondità di giunzione)-1)+(sqrt(1+(2*Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio)/Profondità di giunzione)-1)). Ecco un esempio: 0.467201 = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*1E+22*abs(2*6.86))*2E-06)/(0.000703*2*2.5E-06)*((sqrt(1+(2*3.14E-07)/2E-06)-1)+(sqrt(1+(2*5.34E-07)/2E-06)-1)).
Come calcolare Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI?
Con Concentrazione dell'accettore (NA), Potenziale di superficie s), Profondità di giunzione (xj), Capacità di ossido per unità di area (Coxide), Lunghezza del canale (L), Profondità di svuotamento della giunzione Pn con sorgente (xdS) & Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio (xdD) possiamo trovare Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI utilizzando la formula - Short Channel Threshold Voltage Reduction = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentrazione dell'accettore*abs(2*Potenziale di superficie))*Profondità di giunzione)/(Capacità di ossido per unità di area*2*Lunghezza del canale)*((sqrt(1+(2*Profondità di svuotamento della giunzione Pn con sorgente)/Profondità di giunzione)-1)+(sqrt(1+(2*Profondità di svuotamento della giunzione Pn con drenaggio)/Profondità di giunzione)-1)). Questa formula utilizza anche le funzioni Carica dell'elettrone, Permittività del silicio, Permittività del vuoto costante(i) e , Radice quadrata (sqrt), Assoluto (abs).
Il Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI può essere negativo?
NO, Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI, misurato in Potenziale elettrico non può può essere negativo.
Quale unità viene utilizzata per misurare Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI?
Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI viene solitamente misurato utilizzando Volt[V] per Potenziale elettrico. Millvolt[V], Microvolt[V], Nanovolt[V] sono le poche altre unità in cui è possibile misurare Riduzione della tensione di soglia a canale corto VLSI.
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