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Formula Profondità di messa a fuoco

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La profondità di fuoco è un parametro critico che influenza la tolleranza alle variazioni di altezza del wafer semiconduttore. Controlla FAQs

DOF = k 2 \cdot \frac{λ l}{{NA}^{2}}

DOF - Profondità di messa a fuoco?k₂ - Fattore di proporzionalità?λ_l - Lunghezza d'onda nella fotolitografia?NA - Apertura numerica?

Esempio di Profondità di messa a fuoco

Con valori

Con unità

Unico esempio

Ecco come appare l'equazione Profondità di messa a fuoco con Valori.

Ecco come appare l'equazione Profondità di messa a fuoco con unità.

Ecco come appare l'equazione Profondità di messa a fuoco.

1.3013 = 3 \cdot \frac{223}{{0.717}^{2}}

1.3013μm = 3 \cdot \frac{223nm}{{0.717}^{2}}

1.3013 = 3 \cdot \frac{223}{{0.717}^{2}}

Mancia: Utilizza l'icona della matita ( Pencil

) in alto per modificare i valori di input e le unità.

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Circuiti integrati (IC) » fx Profondità di messa a fuoco

Profondità di messa a fuoco Soluzione

Segui la nostra soluzione passo passo su come calcolare Profondità di messa a fuoco?

Primo passo Considera la formula

DOF = k 2 \cdot \frac{λ l}{{NA}^{2}}

Passo successivo Valori sostitutivi delle variabili

∴

DOF = 3 \cdot \frac{223nm}{{0.717}^{2}}

Passo successivo Converti unità

∴

DOF = 3 \cdot \frac{2.2E-7m}{{0.717}^{2}}

Passo successivo Preparati a valutare

∴

DOF = 3 \cdot \frac{2.2E-7}{{0.717}^{2}}

Passo successivo Valutare

∴

DOF = 1.30133109247621E-06m

Passo successivo Converti nell'unità di output

∴

DOF = 1.30133109247621μm

Ultimo passo Risposta arrotondata

∴

DOF = 1.3013μm

Profondità di messa a fuoco Formula Elementi

Variabili

Profondità di messa a fuoco

La profondità di fuoco è un parametro critico che influenza la tolleranza alle variazioni di altezza del wafer semiconduttore.

Simbolo: DOF

Misurazione: Lunghezza d'ondaUnità: μm

Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.

Formule per trovare Profondità di messa a fuoco

Fattore di proporzionalità

Il fattore di proporzionalità è una costante che mette in relazione due parametri chiave: la dimensione critica (CD) e la dose di esposizione.

Simbolo: k₂

Misurazione: NAUnità: Unitless

Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.

Formule per trovare Fattore di proporzionalità

Lunghezza d'onda nella fotolitografia

La lunghezza d'onda nella fotolitografia si riferisce alla gamma specifica di radiazione elettromagnetica impiegata per modellare i wafer semiconduttori durante il processo di fabbricazione del semiconduttore.

Simbolo: λ_l

Misurazione: Lunghezza d'ondaUnità: nm

Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.

Formule per trovare Lunghezza d'onda nella fotolitografia

Apertura numerica

L'apertura numerica di un sistema ottico è un parametro utilizzato in ottica per descrivere la capacità di un sistema ottico. Nel contesto della produzione di semiconduttori e della fotolitografia.

Simbolo: NA

Misurazione: NAUnità: Unitless

Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.

Formule per trovare Apertura numerica

Altre formule nella categoria Fabbricazione di circuiti integrati MOS

va Effetto corpo nel MOSFET

V t = V th + γ \cdot (\sqrt{2 \cdot Φ f + V bs} - \sqrt{2 \cdot Φ f})

va Frequenza di guadagno unitario MOSFET

f t = \frac{g m}{C gs + C gd}

va Corrente di drenaggio del MOSFET nella regione di saturazione

I d = \frac{β}{2} \cdot {(V gs - V th)}^{2} \cdot (1 + λ i \cdot V ds)

va Resistenza del canale

R ch = \frac{L t}{W t} \cdot \frac{1}{μ n \cdot Q on}

Vedi altro OpenImg

Come valutare Profondità di messa a fuoco?

Il valutatore Profondità di messa a fuoco utilizza Depth of Focus = Fattore di proporzionalità*Lunghezza d'onda nella fotolitografia/(Apertura numerica^2) per valutare Profondità di messa a fuoco, La profondità di fuoco è definita come un parametro critico che influenza la tolleranza alle variazioni di altezza del wafer semiconduttore. È l'intervallo di distanze davanti e dietro il piano focale in cui gli oggetti appaiono sufficientemente nitidi in un'immagine. Profondità di messa a fuoco è indicato dal simbolo DOF.

Come valutare Profondità di messa a fuoco utilizzando questo valutatore online? Per utilizzare questo valutatore online per Profondità di messa a fuoco, inserisci Fattore di proporzionalità (k₂), Lunghezza d'onda nella fotolitografia (λ_l) & Apertura numerica (NA) e premi il pulsante Calcola.

FAQs SU Profondità di messa a fuoco

Qual è la formula per trovare Profondità di messa a fuoco?

La formula di Profondità di messa a fuoco è espressa come Depth of Focus = Fattore di proporzionalità*Lunghezza d'onda nella fotolitografia/(Apertura numerica^2). Ecco un esempio: 1.3E+12 = 3*2.23E-07/(0.717^2).

Come calcolare Profondità di messa a fuoco?

Con Fattore di proporzionalità (k₂), Lunghezza d'onda nella fotolitografia (λ_l) & Apertura numerica (NA) possiamo trovare Profondità di messa a fuoco utilizzando la formula - Depth of Focus = Fattore di proporzionalità*Lunghezza d'onda nella fotolitografia/(Apertura numerica^2).

Il Profondità di messa a fuoco può essere negativo?

NO, Profondità di messa a fuoco, misurato in Lunghezza d'onda non può può essere negativo.

Quale unità viene utilizzata per misurare Profondità di messa a fuoco?

Profondità di messa a fuoco viene solitamente misurato utilizzando Micrometro[μm] per Lunghezza d'onda. metro[μm], Megametro[μm], Chilometro[μm] sono le poche altre unità in cui è possibile misurare Profondità di messa a fuoco.

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