Formula Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI

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La densità di carica della regione di svuotamento di massa è definita come la carica elettrica per unità di area associata alla regione di svuotamento nella massa di un dispositivo a semiconduttore. Controlla FAQs
QB0=-(1-(ΔLs+ΔLD2L))2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]NA|2Φs|
QB0 - Densità di carica della regione di esaurimento di massa?ΔLs - Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente?ΔLD - Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio?L - Lunghezza del canale?NA - Concentrazione dell'accettore?Φs - Potenziale di superficie?[Charge-e] - Carica dell'elettrone?[Permitivity-silicon] - Permittività del silicio?[Permitivity-vacuum] - Permittività del vuoto?

Esempio di Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI

Con valori
Con unità
Unico esempio

Ecco come appare l'equazione Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI con Valori.

Ecco come appare l'equazione Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI con unità.

Ecco come appare l'equazione Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI.

-0.2006Edit=-(1-(0.1Edit+0.2Edit22.5Edit))21.6E-1911.78.9E-121E+16Edit|26.86Edit|
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Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI Soluzione

Segui la nostra soluzione passo passo su come calcolare Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI?

Primo passo Considera la formula
QB0=-(1-(ΔLs+ΔLD2L))2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]NA|2Φs|
Passo successivo Valori sostitutivi delle variabili
QB0=-(1-(0.1μm+0.2μm22.5μm))2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]1E+161/cm³|26.86V|
Passo successivo Valori sostitutivi delle costanti
QB0=-(1-(0.1μm+0.2μm22.5μm))21.6E-19C11.78.9E-12F/m1E+161/cm³|26.86V|
Passo successivo Converti unità
QB0=-(1-(1E-7m+2E-7m22.5E-6m))21.6E-19C11.78.9E-12F/m1E+221/m³|26.86V|
Passo successivo Preparati a valutare
QB0=-(1-(1E-7+2E-722.5E-6))21.6E-1911.78.9E-121E+22|26.86|
Passo successivo Valutare
QB0=-0.00200557851391776C/m²
Passo successivo Converti nell'unità di output
QB0=-0.200557851391776μC/cm²
Ultimo passo Risposta arrotondata
QB0=-0.2006μC/cm²

Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI Formula Elementi

Variabili
Costanti
Funzioni
Densità di carica della regione di esaurimento di massa
La densità di carica della regione di svuotamento di massa è definita come la carica elettrica per unità di area associata alla regione di svuotamento nella massa di un dispositivo a semiconduttore.
Simbolo: QB0
Misurazione: Densità di carica superficialeUnità: μC/cm²
Nota: Il valore può essere positivo o negativo.
Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente
Estensione laterale della regione di svuotamento con la sorgente la distanza orizzontale attraverso la quale la regione di svuotamento si estende lateralmente dal terminale di sorgente in un dispositivo a semiconduttore.
Simbolo: ΔLs
Misurazione: LunghezzaUnità: μm
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio
Estensione laterale della regione di svuotamento con drenaggio la distanza orizzontale attraverso la quale la regione di svuotamento si estende lateralmente dal terminale di drenaggio in un dispositivo a semiconduttore.
Simbolo: ΔLD
Misurazione: LunghezzaUnità: μm
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Lunghezza del canale
La lunghezza del canale si riferisce alla lunghezza fisica del materiale semiconduttore tra i terminali di source e drain all'interno della struttura del transistor.
Simbolo: L
Misurazione: LunghezzaUnità: μm
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Concentrazione dell'accettore
La concentrazione dell'accettore si riferisce alla concentrazione degli atomi droganti dell'accettore in un materiale semiconduttore.
Simbolo: NA
Misurazione: Concentrazione del portatoreUnità: 1/cm³
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Potenziale di superficie
Il potenziale superficiale è un parametro chiave nella valutazione delle proprietà CC dei transistor a film sottile.
Simbolo: Φs
Misurazione: Potenziale elettricoUnità: V
Nota: Il valore deve essere maggiore di 0.
Carica dell'elettrone
La carica dell'elettrone è una costante fisica fondamentale, che rappresenta la carica elettrica trasportata da un elettrone, che è la particella elementare con una carica elettrica negativa.
Simbolo: [Charge-e]
Valore: 1.60217662E-19 C
Permittività del silicio
La permettività del silicio misura la sua capacità di immagazzinare energia elettrica in un campo elettrico, fondamentale nella tecnologia dei semiconduttori.
Simbolo: [Permitivity-silicon]
Valore: 11.7
Permittività del vuoto
La permettività del vuoto è una costante fisica fondamentale che descrive la capacità del vuoto di consentire la trasmissione delle linee del campo elettrico.
Simbolo: [Permitivity-vacuum]
Valore: 8.85E-12 F/m
sqrt
Una funzione radice quadrata è una funzione che accetta un numero non negativo come input e restituisce la radice quadrata del numero di input specificato.
Sintassi: sqrt(Number)
abs
Il valore assoluto di un numero è la sua distanza da zero sulla retta numerica. È sempre un valore positivo, poiché rappresenta la grandezza di un numero senza considerare la sua direzione.
Sintassi: abs(Number)

Altre formule nella categoria Ottimizzazione dei materiali VLSI

​va Coefficiente di effetto corporeo
γ=modu̲s(Vt-Vt0Φs+(Vsb)-Φs)
​va Channel Charge
Qch=Cg(Vgc-Vt)
​va Tensione critica
Vx=ExEch
​va Coefficiente DIBL
η=Vt0-VtVds

Come valutare Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI?

Il valutatore Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI utilizza Bulk Depletion Region Charge Density = -(1-((Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente+Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio)/(2*Lunghezza del canale)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentrazione dell'accettore*abs(2*Potenziale di superficie)) per valutare Densità di carica della regione di esaurimento di massa, La formula VLSI della densità di carica della regione di svuotamento di massa è definita come la carica elettrica per unità di area associata alla regione di svuotamento nella massa di un dispositivo a semiconduttore. Densità di carica della regione di esaurimento di massa è indicato dal simbolo QB0.

Come valutare Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI utilizzando questo valutatore online? Per utilizzare questo valutatore online per Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI, inserisci Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente (ΔLs), Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio (ΔLD), Lunghezza del canale (L), Concentrazione dell'accettore (NA) & Potenziale di superficie s) e premi il pulsante Calcola.

FAQs SU Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI

Qual è la formula per trovare Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI?
La formula di Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI è espressa come Bulk Depletion Region Charge Density = -(1-((Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente+Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio)/(2*Lunghezza del canale)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentrazione dell'accettore*abs(2*Potenziale di superficie)). Ecco un esempio: -20.055785 = -(1-((1E-07+2E-07)/(2*2.5E-06)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*1E+22*abs(2*6.86)).
Come calcolare Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI?
Con Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente (ΔLs), Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio (ΔLD), Lunghezza del canale (L), Concentrazione dell'accettore (NA) & Potenziale di superficie s) possiamo trovare Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI utilizzando la formula - Bulk Depletion Region Charge Density = -(1-((Estensione laterale della regione di esaurimento con la sorgente+Estensione laterale della regione di esaurimento con drenaggio)/(2*Lunghezza del canale)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentrazione dell'accettore*abs(2*Potenziale di superficie)). Questa formula utilizza anche le funzioni Carica dell'elettrone, Permittività del silicio, Permittività del vuoto costante(i) e , Radice quadrata (sqrt), Assoluto (abs).
Il Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI può essere negativo?
SÌ, Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI, misurato in Densità di carica superficiale Potere può essere negativo.
Quale unità viene utilizzata per misurare Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI?
Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI viene solitamente misurato utilizzando Microcoulomb per centimetro quadrato[μC/cm²] per Densità di carica superficiale. Coulomb per metro quadrato[μC/cm²], Coulomb per centimetro quadrato[μC/cm²], Coulomb per pollice quadrato[μC/cm²] sono le poche altre unità in cui è possibile misurare Densità di carica della regione di esaurimento di massa VLSI.
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