Réduction de tension de seuil de canal court
La réduction de tension de seuil de canal court est définie comme une réduction de la tension de seuil du MOSFET en raison de l'effet de canal court.
Symbole: ΔVT0
La mesure: Potentiel électriqueUnité: V
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Concentration d'accepteur
La concentration d'accepteur fait référence à la concentration d'atomes de dopant accepteur dans un matériau semi-conducteur.
Symbole: NA
La mesure: Concentration de transporteurUnité: 1/cm³
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Potentiel des surfaces
Le potentiel de surface est un paramètre clé dans l’évaluation de la propriété DC des transistors à couches minces.
Symbole: Φs
La mesure: Potentiel électriqueUnité: V
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Profondeur de jonction
La profondeur de jonction est définie comme la distance entre la surface d'un matériau semi-conducteur et le point où se produit un changement significatif dans la concentration d'atomes dopants.
Symbole: xj
La mesure: LongueurUnité: μm
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Capacité d'oxyde par unité de surface
La capacité d'oxyde par unité de surface est définie comme la capacité par unité de surface de la couche d'oxyde isolante qui sépare la grille métallique du matériau semi-conducteur.
Symbole: Coxide
La mesure: Capacité d'oxyde par unité de surfaceUnité: μF/cm²
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Longueur du canal
La longueur du canal fait référence à la longueur physique du matériau semi-conducteur entre les bornes source et drain au sein de la structure du transistor.
Symbole: L
La mesure: LongueurUnité: μm
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source
La profondeur d'épuisement de la jonction Pn avec source est définie comme la région autour d'une jonction pn où les porteurs de charge ont été épuisés en raison de la formation d'un champ électrique.
Symbole: xdS
La mesure: LongueurUnité: μm
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Profondeur d'épuisement de la jonction Pn avec drain
La profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec drain est définie comme l'extension de la région d'appauvrissement dans le matériau semi-conducteur près de la borne de drain.
Symbole: xdD
La mesure: LongueurUnité: μm
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Charge d'électron
La charge de l’électron est une constante physique fondamentale, représentant la charge électrique portée par un électron, qui est la particule élémentaire dotée d’une charge électrique négative.
Symbole: [Charge-e]
Valeur: 1.60217662E-19 C
Permittivité du silicium
La permittivité du silicium mesure sa capacité à stocker de l'énergie électrique dans un champ électrique, vitale dans la technologie des semi-conducteurs.
Symbole: [Permitivity-silicon]
Valeur: 11.7
Permittivité du vide
La permittivité du vide est une constante physique fondamentale qui décrit la capacité du vide à permettre la transmission de lignes de champ électrique.
Symbole: [Permitivity-vacuum]
Valeur: 8.85E-12 F/m