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Formule Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI

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La profondeur d'épuisement de la jonction Pn avec source est définie comme la région autour d'une jonction pn où les porteurs de charge ont été épuisés en raison de la formation d'un champ électrique. Vérifiez FAQs

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot [Permitivity-silicon] \cdot [Permitivity-vacuum] \cdot Ø 0}{[Charge-e] \cdot N A}}

x_dS - Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source?Ø₀ - Tension intégrée de jonction?N_A - Concentration d'accepteur?[Permitivity-silicon] - Permittivité du silicium?[Permitivity-vacuum] - Permittivité du vide?[Charge-e] - Charge d'électron?

Exemple Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI

Avec des valeurs

Avec unités

Seul exemple

Voici à quoi ressemble l'équation Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI avec des valeurs.

Voici à quoi ressemble l'équation Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI avec unités.

Voici à quoi ressemble l'équation Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI.

0.3134 = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12 \cdot 0.76}{1.6E-19 \cdot 1E+16}}

0.3134μm = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12F/m \cdot 0.76V}{1.6E-19C \cdot 1E+161/cm³}}

0.3134 = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12 \cdot 0.76}{1.6E-19 \cdot 1E+16}}

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Fabrication VLSI » fx Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI

Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI Solution

Suivez notre solution étape par étape pour savoir comment calculer Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI ?

Premier pas Considérez la formule

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot [Permitivity-silicon] \cdot [Permitivity-vacuum] \cdot Ø 0}{[Charge-e] \cdot N A}}

L'étape suivante Valeurs de remplacement des variables

∴

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot [Permitivity-silicon] \cdot [Permitivity-vacuum] \cdot 0.76V}{[Charge-e] \cdot 1E+161/cm³}}

L'étape suivante Valeurs de remplacement des constantes

∴

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12F/m \cdot 0.76V}{1.6E-19C \cdot 1E+161/cm³}}

L'étape suivante Convertir des unités

∴

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12F/m \cdot 0.76V}{1.6E-19C \cdot 1E+221/m³}}

L'étape suivante Préparez-vous à évaluer

∴

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12 \cdot 0.76}{1.6E-19 \cdot 1E+22}}

L'étape suivante Évaluer

∴

x dS = 3.13423217933622E-07m

L'étape suivante Convertir en unité de sortie

∴

x dS = 0.313423217933622μm

Dernière étape Réponse arrondie

∴

x dS = 0.3134μm

Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI Formule Éléments

Variables

Constantes

Les fonctions

Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source

Symbole: x_dS

La mesure: LongueurUnité: μm

Note: La valeur doit être supérieure à 0.

Formules pour trouver Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source

Tension intégrée de jonction

La tension intégrée de jonction est définie comme la tension qui existe aux bornes d’une jonction semi-conductrice en équilibre thermique, où aucune tension externe n’est appliquée.

Symbole: Ø₀

La mesure: Potentiel électriqueUnité: V

Note: La valeur doit être supérieure à 0.

Formules pour trouver Tension intégrée de jonction

Concentration d'accepteur

La concentration d'accepteur fait référence à la concentration d'atomes de dopant accepteur dans un matériau semi-conducteur.

Symbole: N_A

La mesure: Concentration de transporteurUnité: 1/cm³

Note: La valeur doit être supérieure à 0.

Formules pour trouver Concentration d'accepteur

Permittivité du silicium

La permittivité du silicium mesure sa capacité à stocker de l'énergie électrique dans un champ électrique, vitale dans la technologie des semi-conducteurs.

Symbole: [Permitivity-silicon]

Valeur: 11.7

Permittivité du vide

La permittivité du vide est une constante physique fondamentale qui décrit la capacité du vide à permettre la transmission de lignes de champ électrique.

Symbole: [Permitivity-vacuum]

Valeur: 8.85E-12 F/m

Charge d'électron

La charge de l’électron est une constante physique fondamentale, représentant la charge électrique portée par un électron, qui est la particule élémentaire dotée d’une charge électrique négative.

Symbole: [Charge-e]

Valeur: 1.60217662E-19 C

sqrt

Une fonction racine carrée est une fonction qui prend un nombre non négatif comme entrée et renvoie la racine carrée du nombre d'entrée donné.

Syntaxe: sqrt(Number)

Autres formules dans la catégorie Optimisation des matériaux VLSI

va Coefficient d'effet corporel

γ = mod \underset{̲}{u} s (\frac{V t - V t0}{\sqrt{Φ s + (V sb)} - \sqrt{Φ s}})

va Charge de canal

Q ch = C g \cdot (V gc - V t)

va Tension critique

V x = E x \cdot E ch

va Coefficient DIBL

η = \frac{V t0 - V t}{V ds}

Voir plus OpenImg

Comment évaluer Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI ?

L'évaluateur Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI utilise P-n Junction Depletion Depth with Source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Tension intégrée de jonction)/([Charge-e]*Concentration d'accepteur)) pour évaluer Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source, La formule de profondeur d'épuisement de jonction PN avec source VLSI est définie comme la région autour d'une jonction PN où les porteurs de charge ont été épuisés en raison de la formation d'un champ électrique. Profondeur d'appauvrissement de la jonction Pn avec source est désigné par le symbole x_dS.

Comment évaluer Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI à l'aide de cet évaluateur en ligne ? Pour utiliser cet évaluateur en ligne pour Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI, saisissez Tension intégrée de jonction (Ø₀) & Concentration d'accepteur (N_A) et appuyez sur le bouton Calculer.

FAQs sur Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI

Quelle est la formule pour trouver Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI ?

La formule de Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI est exprimée sous la forme P-n Junction Depletion Depth with Source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Tension intégrée de jonction)/([Charge-e]*Concentration d'accepteur)). Voici un exemple : 313423.2 = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*0.76)/([Charge-e]*1E+22)).

Comment calculer Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI ?

Avec Tension intégrée de jonction (Ø₀) & Concentration d'accepteur (N_A), nous pouvons trouver Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI en utilisant la formule - P-n Junction Depletion Depth with Source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Tension intégrée de jonction)/([Charge-e]*Concentration d'accepteur)). Cette formule utilise également les fonctions Permittivité du silicium, Permittivité du vide, Charge d'électron constante(s) et Fonction racine carrée.

Le Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI peut-il être négatif ?

Non, le Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI, mesuré dans Longueur ne peut pas, doit être négatif.

Quelle unité est utilisée pour mesurer Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI ?

Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI est généralement mesuré à l'aide de Micromètre[μm] pour Longueur. Mètre[μm], Millimètre[μm], Kilomètre[μm] sont les quelques autres unités dans lesquelles Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI peut être mesuré.

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Formule Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI

Exemple Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI

Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI Solution

Profondeur d'appauvrissement de la jonction PN avec source VLSI Formule Éléments

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