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Formule Dimension critique

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La dimension critique dans la fabrication de semi-conducteurs fait référence à la plus petite taille de caractéristique ou à la plus petite taille mesurable dans un processus donné. Vérifiez FAQs
CD=k1⋅λlNA
CD - Dimension critique?k1 - Constante dépendante du processus?λl - Longueur d'onde en photolithographie?NA - Ouverture numérique?

Exemple Dimension critique

Avec des valeurs
Avec unités
Seul exemple

Voici à quoi ressemble l'équation Dimension critique avec des valeurs.

Voici à quoi ressemble l'équation Dimension critique avec unités.

Voici à quoi ressemble l'équation Dimension critique.

485.1883Edit=1.56Edit⋅223Edit0.717Edit
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HomeIcon Maison » Category Ingénierie » Category Électronique » Category Circuits intégrés (CI) » fx Dimension critique

Dimension critique Solution

Suivez notre solution étape par étape pour savoir comment calculer Dimension critique ?

Premier pas Considérez la formule
CD=k1⋅λlNA
L'étape suivante Valeurs de remplacement des variables
∴ CD=1.56⋅223nm0.717
L'étape suivante Convertir des unités
∴ CD=1.56⋅2.2E-7m0.717
L'étape suivante Préparez-vous à évaluer
∴ CD=1.56⋅2.2E-70.717
L'étape suivante Évaluer
∴CD=4.85188284518829E-07m
L'étape suivante Convertir en unité de sortie
∴CD=485.188284518829nm
Dernière étape Réponse arrondie
∴CD=485.1883nm

Dimension critique Formule Éléments

Variables
Dimension critique
La dimension critique dans la fabrication de semi-conducteurs fait référence à la plus petite taille de caractéristique ou à la plus petite taille mesurable dans un processus donné.
Symbole: CD
La mesure: LongueurUnité: nm
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Formules pour trouver Dimension critiqueOpen Variable
Constante dépendante du processus
La constante dépendante du processus fait référence à un paramètre ou à une valeur qui caractérise un aspect spécifique du processus de fabrication et a un impact significatif sur les performances des dispositifs semi-conducteurs.
Symbole: k1
La mesure: NAUnité: Unitless
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Formules pour trouver Constante dépendante du processusOpen Variable
Longueur d'onde en photolithographie
La longueur d'onde en photolithographie fait référence à la plage spécifique de rayonnement électromagnétique utilisée pour modeler les tranches semi-conductrices pendant le processus de fabrication des semi-conducteurs.
Symbole: λl
La mesure: Longueur d'ondeUnité: nm
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Formules pour trouver Longueur d'onde en photolithographieOpen Variable
Ouverture numérique
L'ouverture numérique d'un système optique est un paramètre utilisé en optique pour décrire la capacité d'un système optique. Dans le contexte de la fabrication de semi-conducteurs et de la photolithographie.
Symbole: NA
La mesure: NAUnité: Unitless
Note: La valeur doit être supérieure à 0.
Formules pour trouver Ouverture numériqueOpen Variable

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Comment évaluer Dimension critique ?

L'évaluateur Dimension critique utilise Critical Dimension = Constante dépendante du processus*Longueur d'onde en photolithographie/Ouverture numérique pour évaluer Dimension critique, La dimension critique fait référence à la plus petite dimension ou taille de fonctionnalité qui détermine les performances et la fonctionnalité du circuit. Il est crucial pour définir la résolution et la précision du processus de fabrication. Dimension critique est désigné par le symbole CD.

Comment évaluer Dimension critique à l'aide de cet évaluateur en ligne ? Pour utiliser cet évaluateur en ligne pour Dimension critique, saisissez Constante dépendante du processus (k1), Longueur d'onde en photolithographie (λl) & Ouverture numérique (NA) et appuyez sur le bouton Calculer.

FAQs sur Dimension critique

Quelle est la formule pour trouver Dimension critique ?
La formule de Dimension critique est exprimée sous la forme Critical Dimension = Constante dépendante du processus*Longueur d'onde en photolithographie/Ouverture numérique. Voici un exemple : 4.9E+11 = 1.56*2.23E-07/0.717.
Comment calculer Dimension critique ?
Avec Constante dépendante du processus (k1), Longueur d'onde en photolithographie (λl) & Ouverture numérique (NA), nous pouvons trouver Dimension critique en utilisant la formule - Critical Dimension = Constante dépendante du processus*Longueur d'onde en photolithographie/Ouverture numérique.
Le Dimension critique peut-il être négatif ?
Non, le Dimension critique, mesuré dans Longueur ne peut pas, doit être négatif.
Quelle unité est utilisée pour mesurer Dimension critique ?
Dimension critique est généralement mesuré à l'aide de Nanomètre[nm] pour Longueur. Mètre[nm], Millimètre[nm], Kilomètre[nm] sont les quelques autres unités dans lesquelles Dimension critique peut être mesuré.
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