Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI Fórmula

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La reducción de voltaje de umbral de canal corto se define como una reducción en el voltaje de umbral de MOSFET debido al efecto de canal corto. Marque FAQs
ΔVT0=2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]NA|2Φs|xjCoxide2L((1+2xdSxj-1)+(1+2xdDxj-1))
ΔVT0 - Reducción de voltaje de umbral de canal corto?NA - Concentración de aceptor?Φs - Potencial de superficie?xj - Profundidad de unión?Coxide - Capacitancia de óxido por unidad de área?L - Longitud del canal?xdS - Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente?xdD - Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje?[Charge-e] - carga de electrones?[Permitivity-silicon] - Permitividad del silicio?[Permitivity-vacuum] - Permitividad del vacío?

Ejemplo de Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI

Con valores
Con unidades
Solo ejemplo

Así es como se ve la ecuación Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI con Valores.

Así es como se ve la ecuación Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI con unidades.

Así es como se ve la ecuación Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI.

0.4672Edit=21.6E-1911.78.9E-121E+16Edit|26.86Edit|2Edit0.0703Edit22.5Edit((1+20.314Edit2Edit-1)+(1+20.534Edit2Edit-1))
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Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI Solución

¿Sigue nuestra solución paso a paso sobre cómo calcular Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI?

Primer paso Considere la fórmula
ΔVT0=2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]NA|2Φs|xjCoxide2L((1+2xdSxj-1)+(1+2xdDxj-1))
Próximo paso Valores sustitutos de variables
ΔVT0=2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]1E+161/cm³|26.86V|2μm0.0703μF/cm²22.5μm((1+20.314μm2μm-1)+(1+20.534μm2μm-1))
Próximo paso Valores sustitutos de constantes
ΔVT0=21.6E-19C11.78.9E-12F/m1E+161/cm³|26.86V|2μm0.0703μF/cm²22.5μm((1+20.314μm2μm-1)+(1+20.534μm2μm-1))
Próximo paso Convertir unidades
ΔVT0=21.6E-19C11.78.9E-12F/m1E+221/m³|26.86V|2E-6m0.0007F/m²22.5E-6m((1+23.1E-7m2E-6m-1)+(1+25.3E-7m2E-6m-1))
Próximo paso Prepárese para evaluar
ΔVT0=21.6E-1911.78.9E-121E+22|26.86|2E-60.000722.5E-6((1+23.1E-72E-6-1)+(1+25.3E-72E-6-1))
Próximo paso Evaluar
ΔVT0=0.467200582407994V
Último paso Respuesta de redondeo
ΔVT0=0.4672V

Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI Fórmula Elementos

variables
Constantes
Funciones
Reducción de voltaje de umbral de canal corto
La reducción de voltaje de umbral de canal corto se define como una reducción en el voltaje de umbral de MOSFET debido al efecto de canal corto.
Símbolo: ΔVT0
Medición: Potencial eléctricoUnidad: V
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Concentración de aceptor
La concentración del aceptor se refiere a la concentración de átomos dopantes aceptores en un material semiconductor.
Símbolo: NA
Medición: Concentración de portadoresUnidad: 1/cm³
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Potencial de superficie
El potencial de superficie es un parámetro clave en la evaluación de la propiedad de CC de los transistores de película delgada.
Símbolo: Φs
Medición: Potencial eléctricoUnidad: V
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Profundidad de unión
La profundidad de unión se define como la distancia desde la superficie de un material semiconductor hasta el punto donde se produce un cambio significativo en la concentración de átomos dopantes.
Símbolo: xj
Medición: LongitudUnidad: μm
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Capacitancia de óxido por unidad de área
La capacitancia de óxido por unidad de área se define como la capacitancia por unidad de área de la capa de óxido aislante que separa la puerta metálica del material semiconductor.
Símbolo: Coxide
Medición: Capacitancia de óxido por unidad de áreaUnidad: μF/cm²
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Longitud del canal
La longitud del canal se refiere a la longitud física del material semiconductor entre los terminales de fuente y drenaje dentro de la estructura del transistor.
Símbolo: L
Medición: LongitudUnidad: μm
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente
La profundidad de agotamiento de la unión pn con la fuente se define como la región alrededor de una unión pn donde los portadores de carga se han agotado debido a la formación de un campo eléctrico.
Símbolo: xdS
Medición: LongitudUnidad: μm
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje
La profundidad de agotamiento de la unión Pn con drenaje se define como la extensión de la región de agotamiento hacia el material semiconductor cerca del terminal de drenaje.
Símbolo: xdD
Medición: LongitudUnidad: μm
Nota: El valor debe ser mayor que 0.
carga de electrones
La carga del electrón es una constante física fundamental que representa la carga eléctrica transportada por un electrón, que es la partícula elemental con carga eléctrica negativa.
Símbolo: [Charge-e]
Valor: 1.60217662E-19 C
Permitividad del silicio
La permitividad del silicio mide su capacidad para almacenar energía eléctrica en un campo eléctrico, vital en la tecnología de semiconductores.
Símbolo: [Permitivity-silicon]
Valor: 11.7
Permitividad del vacío
La permitividad del vacío es una constante física fundamental que describe la capacidad del vacío para permitir la transmisión de líneas de campo eléctrico.
Símbolo: [Permitivity-vacuum]
Valor: 8.85E-12 F/m
sqrt
Una función de raíz cuadrada es una función que toma un número no negativo como entrada y devuelve la raíz cuadrada del número de entrada dado.
Sintaxis: sqrt(Number)
abs
El valor absoluto de un número es su distancia al cero en la recta numérica. Siempre es un valor positivo, ya que representa la magnitud de un número sin tener en cuenta su dirección.
Sintaxis: abs(Number)

Otras fórmulas en la categoría Optimización de materiales VLSI

​Ir Coeficiente de efecto corporal
γ=modu̲s(Vt-Vt0Φs+(Vsb)-Φs)
​Ir Carga de canal
Qch=Cg(Vgc-Vt)

¿Cómo evaluar Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI?

El evaluador de Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI usa Short Channel Threshold Voltage Reduction = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentración de aceptor*abs(2*Potencial de superficie))*Profundidad de unión)/(Capacitancia de óxido por unidad de área*2*Longitud del canal)*((sqrt(1+(2*Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente)/Profundidad de unión)-1)+(sqrt(1+(2*Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje)/Profundidad de unión)-1)) para evaluar Reducción de voltaje de umbral de canal corto, La fórmula VLSI de reducción de voltaje de umbral de canal corto se define como una reducción en el voltaje de umbral de MOSFET debido al efecto de canal corto. Reducción de voltaje de umbral de canal corto se indica mediante el símbolo ΔVT0.

¿Cómo evaluar Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI usando este evaluador en línea? Para utilizar este evaluador en línea para Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI, ingrese Concentración de aceptor (NA), Potencial de superficie s), Profundidad de unión (xj), Capacitancia de óxido por unidad de área (Coxide), Longitud del canal (L), Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente (xdS) & Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje (xdD) y presione el botón calcular.

FAQs en Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI

¿Cuál es la fórmula para encontrar Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI?
La fórmula de Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI se expresa como Short Channel Threshold Voltage Reduction = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentración de aceptor*abs(2*Potencial de superficie))*Profundidad de unión)/(Capacitancia de óxido por unidad de área*2*Longitud del canal)*((sqrt(1+(2*Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente)/Profundidad de unión)-1)+(sqrt(1+(2*Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje)/Profundidad de unión)-1)). Aquí hay un ejemplo: 0.467201 = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*1E+22*abs(2*6.86))*2E-06)/(0.000703*2*2.5E-06)*((sqrt(1+(2*3.14E-07)/2E-06)-1)+(sqrt(1+(2*5.34E-07)/2E-06)-1)).
¿Cómo calcular Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI?
Con Concentración de aceptor (NA), Potencial de superficie s), Profundidad de unión (xj), Capacitancia de óxido por unidad de área (Coxide), Longitud del canal (L), Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente (xdS) & Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje (xdD) podemos encontrar Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI usando la fórmula - Short Channel Threshold Voltage Reduction = (sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Concentración de aceptor*abs(2*Potencial de superficie))*Profundidad de unión)/(Capacitancia de óxido por unidad de área*2*Longitud del canal)*((sqrt(1+(2*Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente)/Profundidad de unión)-1)+(sqrt(1+(2*Profundidad de agotamiento de la unión PN con drenaje)/Profundidad de unión)-1)). Esta fórmula también utiliza funciones carga de electrones, Permitividad del silicio, Permitividad del vacío constante(s) y , Raíz cuadrada (sqrt), Absoluto (abs).
¿Puede el Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI ser negativo?
No, el Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI, medido en Potencial eléctrico no puedo sea negativo.
¿Qué unidad se utiliza para medir Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI?
Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI generalmente se mide usando Voltio[V] para Potencial eléctrico. milivoltio[V], Microvoltio[V], nanovoltios[V] son las pocas otras unidades en las que se puede medir Reducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI.
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