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Profundidad de enfoque Fórmula

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La profundidad de enfoque es un parámetro crítico que influye en la tolerancia a las variaciones en la altura de la oblea semiconductora. Marque FAQs

DOF = k 2 \cdot \frac{λ l}{{NA}^{2}}

DOF - Profundidad de enfoque?k₂ - Factor de proporcionalidad?λ_l - Longitud de onda en fotolitografía?NA - Apertura numérica?

Ejemplo de Profundidad de enfoque

Con valores

Con unidades

Solo ejemplo

Así es como se ve la ecuación Profundidad de enfoque con Valores.

Así es como se ve la ecuación Profundidad de enfoque con unidades.

Así es como se ve la ecuación Profundidad de enfoque.

1.3013 = 3 \cdot \frac{223}{{0.717}^{2}}

1.3013μm = 3 \cdot \frac{223nm}{{0.717}^{2}}

1.3013 = 3 \cdot \frac{223}{{0.717}^{2}}

Consejo: Utilice el icono de lápiz ( Pencil

) de arriba para editar los valores de entrada y las unidades.

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Circuitos integrados (CI) » fx Profundidad de enfoque

Profundidad de enfoque Solución

¿Sigue nuestra solución paso a paso sobre cómo calcular Profundidad de enfoque?

Primer paso Considere la fórmula

DOF = k 2 \cdot \frac{λ l}{{NA}^{2}}

Próximo paso Valores sustitutos de variables

∴

DOF = 3 \cdot \frac{223nm}{{0.717}^{2}}

Próximo paso Convertir unidades

∴

DOF = 3 \cdot \frac{2.2E-7m}{{0.717}^{2}}

Próximo paso Prepárese para evaluar

∴

DOF = 3 \cdot \frac{2.2E-7}{{0.717}^{2}}

Próximo paso Evaluar

∴

DOF = 1.30133109247621E-06m

Próximo paso Convertir a unidad de salida

∴

DOF = 1.30133109247621μm

Último paso Respuesta de redondeo

∴

DOF = 1.3013μm

Profundidad de enfoque Fórmula Elementos

variables

Profundidad de enfoque

La profundidad de enfoque es un parámetro crítico que influye en la tolerancia a las variaciones en la altura de la oblea semiconductora.

Símbolo: DOF

Medición: Longitud de ondaUnidad: μm

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Profundidad de enfoque

Factor de proporcionalidad

El factor de proporcionalidad es una constante que relaciona dos parámetros clave: la dimensión crítica (CD) y la dosis de exposición.

Símbolo: k₂

Medición: NAUnidad: Unitless

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Factor de proporcionalidad

Longitud de onda en fotolitografía

La longitud de onda en fotolitografía se refiere al rango específico de radiación electromagnética empleada para modelar obleas semiconductoras durante el proceso de fabricación de semiconductores.

Símbolo: λ_l

Medición: Longitud de ondaUnidad: nm

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Longitud de onda en fotolitografía

Apertura numérica

La apertura numérica de un sistema óptico es un parámetro utilizado en óptica para describir la capacidad de un sistema óptico. En el contexto de la fabricación de semiconductores y la fotolitografía.

Símbolo: NA

Medición: NAUnidad: Unitless

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Apertura numérica

Otras fórmulas en la categoría Fabricación de circuitos integrados MOS

Ir Efecto corporal en MOSFET

V t = V th + γ \cdot (\sqrt{2 \cdot Φ f + V bs} - \sqrt{2 \cdot Φ f})

Ir Frecuencia de ganancia unitaria MOSFET

f t = \frac{g m}{C gs + C gd}

Ir Corriente de drenaje de MOSFET en la región de saturación

I d = \frac{β}{2} \cdot {(V gs - V th)}^{2} \cdot (1 + λ i \cdot V ds)

Ir Resistencia del canal

R ch = \frac{L t}{W t} \cdot \frac{1}{μ n \cdot Q on}

¿Cómo evaluar Profundidad de enfoque?

El evaluador de Profundidad de enfoque usa Depth of Focus = Factor de proporcionalidad*Longitud de onda en fotolitografía/(Apertura numérica^2) para evaluar Profundidad de enfoque, La Profundidad de Enfoque se define como un parámetro crítico que influye en la tolerancia a las variaciones en la altura de la oblea semiconductora. Es el rango de distancias delante y detrás del plano focal donde los objetos aparecen suficientemente nítidos en una imagen. Profundidad de enfoque se indica mediante el símbolo DOF.

¿Cómo evaluar Profundidad de enfoque usando este evaluador en línea? Para utilizar este evaluador en línea para Profundidad de enfoque, ingrese Factor de proporcionalidad (k₂), Longitud de onda en fotolitografía (λ_l) & Apertura numérica (NA) y presione el botón calcular.

FAQs en Profundidad de enfoque

¿Cuál es la fórmula para encontrar Profundidad de enfoque?

La fórmula de Profundidad de enfoque se expresa como Depth of Focus = Factor de proporcionalidad*Longitud de onda en fotolitografía/(Apertura numérica^2). Aquí hay un ejemplo: 1.3E+12 = 3*2.23E-07/(0.717^2).

¿Cómo calcular Profundidad de enfoque?

Con Factor de proporcionalidad (k₂), Longitud de onda en fotolitografía (λ_l) & Apertura numérica (NA) podemos encontrar Profundidad de enfoque usando la fórmula - Depth of Focus = Factor de proporcionalidad*Longitud de onda en fotolitografía/(Apertura numérica^2).

¿Puede el Profundidad de enfoque ser negativo?

No, el Profundidad de enfoque, medido en Longitud de onda no puedo sea negativo.

¿Qué unidad se utiliza para medir Profundidad de enfoque?

Profundidad de enfoque generalmente se mide usando Micrómetro[μm] para Longitud de onda. Metro[μm], megámetro[μm], Kilómetro[μm] son las pocas otras unidades en las que se puede medir Profundidad de enfoque.

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Profundidad de enfoque Fórmula

Ejemplo de Profundidad de enfoque

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FAQs en Profundidad de enfoque

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