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Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI Fórmula

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La profundidad de agotamiento de la unión pn con la fuente se define como la región alrededor de una unión pn donde los portadores de carga se han agotado debido a la formación de un campo eléctrico. Marque FAQs

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot [Permitivity-silicon] \cdot [Permitivity-vacuum] \cdot Ø 0}{[Charge-e] \cdot N A}}

x_dS - Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente?Ø₀ - Voltaje incorporado de unión?N_A - Concentración de aceptor?[Permitivity-silicon] - Permitividad del silicio?[Permitivity-vacuum] - Permitividad del vacío?[Charge-e] - carga de electrones?

Ejemplo de Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI

Con valores

Con unidades

Solo ejemplo

Así es como se ve la ecuación Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI con Valores.

Así es como se ve la ecuación Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI con unidades.

Así es como se ve la ecuación Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI.

0.3134 = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12 \cdot 0.76}{1.6E-19 \cdot 1E+16}}

0.3134μm = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12F/m \cdot 0.76V}{1.6E-19C \cdot 1E+161/cm³}}

0.3134 = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12 \cdot 0.76}{1.6E-19 \cdot 1E+16}}

Consejo: Utilice el icono de lápiz ( Pencil

) de arriba para editar los valores de entrada y las unidades.

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Fabricación de VLSI » fx Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI

Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI Solución

¿Sigue nuestra solución paso a paso sobre cómo calcular Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI?

Primer paso Considere la fórmula

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot [Permitivity-silicon] \cdot [Permitivity-vacuum] \cdot Ø 0}{[Charge-e] \cdot N A}}

Próximo paso Valores sustitutos de variables

∴

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot [Permitivity-silicon] \cdot [Permitivity-vacuum] \cdot 0.76V}{[Charge-e] \cdot 1E+161/cm³}}

Próximo paso Valores sustitutos de constantes

∴

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12F/m \cdot 0.76V}{1.6E-19C \cdot 1E+161/cm³}}

Próximo paso Convertir unidades

∴

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12F/m \cdot 0.76V}{1.6E-19C \cdot 1E+221/m³}}

Próximo paso Prepárese para evaluar

∴

x dS = \sqrt{\frac{2 \cdot 11.7 \cdot 8.9E-12 \cdot 0.76}{1.6E-19 \cdot 1E+22}}

Próximo paso Evaluar

∴

x dS = 3.13423217933622E-07m

Próximo paso Convertir a unidad de salida

∴

x dS = 0.313423217933622μm

Último paso Respuesta de redondeo

∴

x dS = 0.3134μm

Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI Fórmula Elementos

variables

Constantes

Funciones

Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente

Símbolo: x_dS

Medición: LongitudUnidad: μm

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente

Voltaje incorporado de unión

El voltaje incorporado en la unión se define como el voltaje que existe a través de una unión semiconductora en equilibrio térmico, donde no se aplica voltaje externo.

Símbolo: Ø₀

Medición: Potencial eléctricoUnidad: V

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Voltaje incorporado de unión

Concentración de aceptor

La concentración del aceptor se refiere a la concentración de átomos dopantes aceptores en un material semiconductor.

Símbolo: N_A

Medición: Concentración de portadoresUnidad: 1/cm³

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Concentración de aceptor

Permitividad del silicio

La permitividad del silicio mide su capacidad para almacenar energía eléctrica en un campo eléctrico, vital en la tecnología de semiconductores.

Símbolo: [Permitivity-silicon]

Valor: 11.7

Permitividad del vacío

La permitividad del vacío es una constante física fundamental que describe la capacidad del vacío para permitir la transmisión de líneas de campo eléctrico.

Símbolo: [Permitivity-vacuum]

Valor: 8.85E-12 F/m

carga de electrones

La carga del electrón es una constante física fundamental que representa la carga eléctrica transportada por un electrón, que es la partícula elemental con carga eléctrica negativa.

Símbolo: [Charge-e]

Valor: 1.60217662E-19 C

sqrt

Una función de raíz cuadrada es una función que toma un número no negativo como entrada y devuelve la raíz cuadrada del número de entrada dado.

Sintaxis: sqrt(Number)

Otras fórmulas en la categoría Optimización de materiales VLSI

Ir Coeficiente de efecto corporal

γ = mod \underset{̲}{u} s (\frac{V t - V t0}{\sqrt{Φ s + (V sb)} - \sqrt{Φ s}})

Ir Carga de canal

Q ch = C g \cdot (V gc - V t)

Ir Voltaje crítico

V x = E x \cdot E ch

Ir Coeficiente DIBL

η = \frac{V t0 - V t}{V ds}

¿Cómo evaluar Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI?

El evaluador de Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI usa P-n Junction Depletion Depth with Source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Voltaje incorporado de unión)/([Charge-e]*Concentración de aceptor)) para evaluar Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente, La fórmula de profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI se define como la región alrededor de una unión pn donde los portadores de carga se han agotado debido a la formación de un campo eléctrico. Profundidad de agotamiento de la unión Pn con fuente se indica mediante el símbolo x_dS.

¿Cómo evaluar Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI usando este evaluador en línea? Para utilizar este evaluador en línea para Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI, ingrese Voltaje incorporado de unión (Ø₀) & Concentración de aceptor (N_A) y presione el botón calcular.

FAQs en Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI

¿Cuál es la fórmula para encontrar Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI?

La fórmula de Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI se expresa como P-n Junction Depletion Depth with Source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Voltaje incorporado de unión)/([Charge-e]*Concentración de aceptor)). Aquí hay un ejemplo: 313423.2 = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*0.76)/([Charge-e]*1E+22)).

¿Cómo calcular Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI?

Con Voltaje incorporado de unión (Ø₀) & Concentración de aceptor (N_A) podemos encontrar Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI usando la fórmula - P-n Junction Depletion Depth with Source = sqrt((2*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Voltaje incorporado de unión)/([Charge-e]*Concentración de aceptor)). Esta fórmula también utiliza funciones Permitividad del silicio, Permitividad del vacío, carga de electrones constante(s) y Raíz cuadrada (sqrt).

¿Puede el Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI ser negativo?

No, el Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI, medido en Longitud no puedo sea negativo.

¿Qué unidad se utiliza para medir Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI?

Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI generalmente se mide usando Micrómetro[μm] para Longitud. Metro[μm], Milímetro[μm], Kilómetro[μm] son las pocas otras unidades en las que se puede medir Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI.

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Profundidad de agotamiento de la unión PN con fuente VLSI Fórmula

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