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Dimensión crítica Fórmula

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La dimensión crítica en la fabricación de semiconductores se refiere al tamaño de característica más pequeño o al tamaño más pequeño medible en un proceso determinado. Marque FAQs

CD = k 1 \cdot \frac{λ l}{NA}

CD - Dimensión crítica?k₁ - Constante dependiente del proceso?λ_l - Longitud de onda en fotolitografía?NA - Apertura numérica?

Ejemplo de Dimensión crítica

Con valores

Con unidades

Solo ejemplo

Así es como se ve la ecuación Dimensión crítica con Valores.

Así es como se ve la ecuación Dimensión crítica con unidades.

Así es como se ve la ecuación Dimensión crítica.

485.1883 = 1.56 \cdot \frac{223}{0.717}

485.1883nm = 1.56 \cdot \frac{223nm}{0.717}

485.1883 = 1.56 \cdot \frac{223}{0.717}

Consejo: Utilice el icono de lápiz ( Pencil

) de arriba para editar los valores de entrada y las unidades.

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Circuitos integrados (CI) » fx Dimensión crítica

Dimensión crítica Solución

¿Sigue nuestra solución paso a paso sobre cómo calcular Dimensión crítica?

Primer paso Considere la fórmula

CD = k 1 \cdot \frac{λ l}{NA}

Próximo paso Valores sustitutos de variables

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{223nm}{0.717}

Próximo paso Convertir unidades

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{2.2E-7m}{0.717}

Próximo paso Prepárese para evaluar

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{2.2E-7}{0.717}

Próximo paso Evaluar

∴

CD = 4.85188284518829E-07m

Próximo paso Convertir a unidad de salida

∴

CD = 485.188284518829nm

Último paso Respuesta de redondeo

∴

CD = 485.1883nm

Dimensión crítica Fórmula Elementos

variables

Dimensión crítica

La dimensión crítica en la fabricación de semiconductores se refiere al tamaño de característica más pequeño o al tamaño más pequeño medible en un proceso determinado.

Símbolo: CD

Medición: LongitudUnidad: nm

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Dimensión crítica

Constante dependiente del proceso

La constante dependiente del proceso se refiere a un parámetro o valor que caracteriza un aspecto específico del proceso de fabricación y tiene un impacto significativo en el rendimiento de los dispositivos semiconductores.

Símbolo: k₁

Medición: NAUnidad: Unitless

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Constante dependiente del proceso

Longitud de onda en fotolitografía

La longitud de onda en fotolitografía se refiere al rango específico de radiación electromagnética empleada para modelar obleas semiconductoras durante el proceso de fabricación de semiconductores.

Símbolo: λ_l

Medición: Longitud de ondaUnidad: nm

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Longitud de onda en fotolitografía

Apertura numérica

La apertura numérica de un sistema óptico es un parámetro utilizado en óptica para describir la capacidad de un sistema óptico. En el contexto de la fabricación de semiconductores y la fotolitografía.

Símbolo: NA

Medición: NAUnidad: Unitless

Nota: El valor debe ser mayor que 0.

Fórmulas para encontrar Apertura numérica

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V t = V th + γ \cdot (\sqrt{2 \cdot Φ f + V bs} - \sqrt{2 \cdot Φ f})

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f t = \frac{g m}{C gs + C gd}

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Ir Resistencia del canal

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¿Cómo evaluar Dimensión crítica?

El evaluador de Dimensión crítica usa Critical Dimension = Constante dependiente del proceso*Longitud de onda en fotolitografía/Apertura numérica para evaluar Dimensión crítica, La dimensión crítica se refiere a la dimensión más pequeña o tamaño de característica que determina el rendimiento y la funcionalidad del circuito. Es crucial para definir la resolución y precisión del proceso de fabricación. Dimensión crítica se indica mediante el símbolo CD.

¿Cómo evaluar Dimensión crítica usando este evaluador en línea? Para utilizar este evaluador en línea para Dimensión crítica, ingrese Constante dependiente del proceso (k₁), Longitud de onda en fotolitografía (λ_l) & Apertura numérica (NA) y presione el botón calcular.

FAQs en Dimensión crítica

¿Cuál es la fórmula para encontrar Dimensión crítica?

La fórmula de Dimensión crítica se expresa como Critical Dimension = Constante dependiente del proceso*Longitud de onda en fotolitografía/Apertura numérica. Aquí hay un ejemplo: 4.9E+11 = 1.56*2.23E-07/0.717.

¿Cómo calcular Dimensión crítica?

Con Constante dependiente del proceso (k₁), Longitud de onda en fotolitografía (λ_l) & Apertura numérica (NA) podemos encontrar Dimensión crítica usando la fórmula - Critical Dimension = Constante dependiente del proceso*Longitud de onda en fotolitografía/Apertura numérica.

¿Puede el Dimensión crítica ser negativo?

No, el Dimensión crítica, medido en Longitud no puedo sea negativo.

¿Qué unidad se utiliza para medir Dimensión crítica?

Dimensión crítica generalmente se mide usando nanómetro[nm] para Longitud. Metro[nm], Milímetro[nm], Kilómetro[nm] son las pocas otras unidades en las que se puede medir Dimensión crítica.

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