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Tiefenschärfe Formel

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Die Fokustiefe ist ein kritischer Parameter, der die Toleranz gegenüber Abweichungen in der Höhe des Halbleiterwafers beeinflusst. Überprüfen Sie FAQs

DOF = k 2 \cdot \frac{λ l}{{NA}^{2}}

DOF - Tiefenschärfe?k₂ - Proportionalitätsfaktor?λ_l - Wellenlänge in der Fotolithographie?NA - Numerische Apertur?

Tiefenschärfe Beispiel

Mit Werten

Mit Einheiten

Nur Beispiel

So sieht die Gleichung Tiefenschärfe aus: mit Werten.

So sieht die Gleichung Tiefenschärfe aus: mit Einheiten.

So sieht die Gleichung Tiefenschärfe aus:.

1.3013 = 3 \cdot \frac{223}{{0.717}^{2}}

1.3013μm = 3 \cdot \frac{223nm}{{0.717}^{2}}

1.3013 = 3 \cdot \frac{223}{{0.717}^{2}}

Tipp: Verwenden Sie das Bleistiftsymbol ( Pencil

) oben, um Eingabewerte und Einheiten zu bearbeiten.

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Tiefenschärfe Lösung

Folgen Sie unserer Schritt-für-Schritt-Lösung zur Berechnung von Tiefenschärfe?

Erster Schritt Betrachten Sie die Formel

DOF = k 2 \cdot \frac{λ l}{{NA}^{2}}

Nächster Schritt Ersatzwerte von Variablen

∴

DOF = 3 \cdot \frac{223nm}{{0.717}^{2}}

Nächster Schritt Einheiten umrechnen

∴

DOF = 3 \cdot \frac{2.2E-7m}{{0.717}^{2}}

Nächster Schritt Bereiten Sie sich auf die Bewertung vor

∴

DOF = 3 \cdot \frac{2.2E-7}{{0.717}^{2}}

Nächster Schritt Auswerten

∴

DOF = 1.30133109247621E-06m

Nächster Schritt In Ausgabeeinheit umrechnen

∴

DOF = 1.30133109247621μm

Letzter Schritt Rundungsantwort

∴

DOF = 1.3013μm

Tiefenschärfe Formel Elemente

Variablen

Tiefenschärfe

Die Fokustiefe ist ein kritischer Parameter, der die Toleranz gegenüber Abweichungen in der Höhe des Halbleiterwafers beeinflusst.

Symbol: DOF

Messung: WellenlängeEinheit: μm

Notiz: Der Wert sollte größer als 0 sein.

Formeln zum Finden von Tiefenschärfe

Proportionalitätsfaktor

Der Proportionalitätsfaktor ist eine Konstante, die zwei Schlüsselparameter in Beziehung setzt: die kritische Dimension (CD) und die Expositionsdosis.

Symbol: k₂

Messung: NAEinheit: Unitless

Notiz: Der Wert sollte größer als 0 sein.

Formeln zum Finden von Proportionalitätsfaktor

Wellenlänge in der Fotolithographie

Unter Wellenlänge in der Fotolithographie versteht man den spezifischen Bereich elektromagnetischer Strahlung, der zur Strukturierung von Halbleiterwafern während des Halbleiterherstellungsprozesses verwendet wird.

Symbol: λ_l

Messung: WellenlängeEinheit: nm

Notiz: Der Wert sollte größer als 0 sein.

Formeln zum Finden von Wellenlänge in der Fotolithographie

Numerische Apertur

Die numerische Apertur eines optischen Systems ist ein Parameter, der in der Optik verwendet wird, um die Leistungsfähigkeit eines optischen Systems zu beschreiben. Im Kontext der Halbleiterfertigung und Fotolithographie.

Symbol: NA

Messung: NAEinheit: Unitless

Notiz: Der Wert sollte größer als 0 sein.

Formeln zum Finden von Numerische Apertur

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V t = V th + γ \cdot (\sqrt{2 \cdot Φ f + V bs} - \sqrt{2 \cdot Φ f})

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Wie wird Tiefenschärfe ausgewertet?

Der Tiefenschärfe-Evaluator verwendet Depth of Focus = Proportionalitätsfaktor*Wellenlänge in der Fotolithographie/(Numerische Apertur^2), um Tiefenschärfe, Die Schärfentiefe ist als kritischer Parameter definiert, der die Toleranz gegenüber Schwankungen in der Höhe des Halbleiterwafers beeinflusst. Dabei handelt es sich um den Abstandsbereich vor und hinter der Brennebene, in dem Objekte in einem Bild ausreichend scharf erscheinen auszuwerten. Tiefenschärfe wird durch das Symbol DOF gekennzeichnet.

Wie wird Tiefenschärfe mit diesem Online-Evaluator ausgewertet? Um diesen Online-Evaluator für Tiefenschärfe zu verwenden, geben Sie Proportionalitätsfaktor (k₂), Wellenlänge in der Fotolithographie (λ_l) & Numerische Apertur (NA) ein und klicken Sie auf die Schaltfläche „Berechnen“.

FAQs An Tiefenschärfe

Wie lautet die Formel zum Finden von Tiefenschärfe?

Die Formel von Tiefenschärfe wird als Depth of Focus = Proportionalitätsfaktor*Wellenlänge in der Fotolithographie/(Numerische Apertur^2) ausgedrückt. Hier ist ein Beispiel: 1.3E+12 = 3*2.23E-07/(0.717^2).

Wie berechnet man Tiefenschärfe?

Mit Proportionalitätsfaktor (k₂), Wellenlänge in der Fotolithographie (λ_l) & Numerische Apertur (NA) können wir Tiefenschärfe mithilfe der Formel - Depth of Focus = Proportionalitätsfaktor*Wellenlänge in der Fotolithographie/(Numerische Apertur^2) finden.

Kann Tiefenschärfe negativ sein?

NEIN, der in Wellenlänge gemessene Tiefenschärfe kann kann nicht negativ sein.

Welche Einheit wird zum Messen von Tiefenschärfe verwendet?

Tiefenschärfe wird normalerweise mit Mikrometer[μm] für Wellenlänge gemessen. Meter[μm], Megameter[μm], Kilometer[μm] sind die wenigen anderen Einheiten, in denen Tiefenschärfe gemessen werden kann.

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