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Kritische Dimension Formel

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Kritische Dimension in der Halbleiterfertigung bezieht sich auf die kleinste Strukturgröße oder die kleinste messbare Größe in einem bestimmten Prozess. Überprüfen Sie FAQs

CD = k 1 \cdot \frac{λ l}{NA}

CD - Kritische Dimension?k₁ - Prozessabhängige Konstante?λ_l - Wellenlänge in der Fotolithographie?NA - Numerische Apertur?

Kritische Dimension Beispiel

Mit Werten

Mit Einheiten

Nur Beispiel

So sieht die Gleichung Kritische Dimension aus: mit Werten.

So sieht die Gleichung Kritische Dimension aus: mit Einheiten.

So sieht die Gleichung Kritische Dimension aus:.

485.1883 = 1.56 \cdot \frac{223}{0.717}

485.1883nm = 1.56 \cdot \frac{223nm}{0.717}

485.1883 = 1.56 \cdot \frac{223}{0.717}

Tipp: Verwenden Sie das Bleistiftsymbol ( Pencil

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Kritische Dimension Lösung

Folgen Sie unserer Schritt-für-Schritt-Lösung zur Berechnung von Kritische Dimension?

Erster Schritt Betrachten Sie die Formel

CD = k 1 \cdot \frac{λ l}{NA}

Nächster Schritt Ersatzwerte von Variablen

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{223nm}{0.717}

Nächster Schritt Einheiten umrechnen

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{2.2E-7m}{0.717}

Nächster Schritt Bereiten Sie sich auf die Bewertung vor

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{2.2E-7}{0.717}

Nächster Schritt Auswerten

∴

CD = 4.85188284518829E-07m

Nächster Schritt In Ausgabeeinheit umrechnen

∴

CD = 485.188284518829nm

Letzter Schritt Rundungsantwort

∴

CD = 485.1883nm

Kritische Dimension Formel Elemente

Variablen

Kritische Dimension

Kritische Dimension in der Halbleiterfertigung bezieht sich auf die kleinste Strukturgröße oder die kleinste messbare Größe in einem bestimmten Prozess.

Symbol: CD

Messung: LängeEinheit: nm

Notiz: Der Wert sollte größer als 0 sein.

Formeln zum Finden von Kritische Dimension

Prozessabhängige Konstante

Die prozessabhängige Konstante bezieht sich auf einen Parameter oder Wert, der einen bestimmten Aspekt des Herstellungsprozesses charakterisiert und einen erheblichen Einfluss auf die Leistung von Halbleiterbauelementen hat.

Symbol: k₁

Messung: NAEinheit: Unitless

Notiz: Der Wert sollte größer als 0 sein.

Formeln zum Finden von Prozessabhängige Konstante

Wellenlänge in der Fotolithographie

Unter Wellenlänge in der Fotolithographie versteht man den spezifischen Bereich elektromagnetischer Strahlung, der zur Strukturierung von Halbleiterwafern während des Halbleiterherstellungsprozesses verwendet wird.

Symbol: λ_l

Messung: WellenlängeEinheit: nm

Notiz: Der Wert sollte größer als 0 sein.

Formeln zum Finden von Wellenlänge in der Fotolithographie

Numerische Apertur

Die numerische Apertur eines optischen Systems ist ein Parameter, der in der Optik verwendet wird, um die Leistungsfähigkeit eines optischen Systems zu beschreiben. Im Kontext der Halbleiterfertigung und Fotolithographie.

Symbol: NA

Messung: NAEinheit: Unitless

Notiz: Der Wert sollte größer als 0 sein.

Formeln zum Finden von Numerische Apertur

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ge Körpereffekt im MOSFET

V t = V th + γ \cdot (\sqrt{2 \cdot Φ f + V bs} - \sqrt{2 \cdot Φ f})

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Wie wird Kritische Dimension ausgewertet?

Der Kritische Dimension-Evaluator verwendet Critical Dimension = Prozessabhängige Konstante*Wellenlänge in der Fotolithographie/Numerische Apertur, um Kritische Dimension, Die kritische Dimension bezieht sich auf die kleinste Dimension oder Strukturgröße, die die Leistung und Funktionalität der Schaltung bestimmt. Sie ist entscheidend für die Definition der Auflösung und Genauigkeit des Herstellungsprozesses auszuwerten. Kritische Dimension wird durch das Symbol CD gekennzeichnet.

Wie wird Kritische Dimension mit diesem Online-Evaluator ausgewertet? Um diesen Online-Evaluator für Kritische Dimension zu verwenden, geben Sie Prozessabhängige Konstante (k₁), Wellenlänge in der Fotolithographie (λ_l) & Numerische Apertur (NA) ein und klicken Sie auf die Schaltfläche „Berechnen“.

FAQs An Kritische Dimension

Wie lautet die Formel zum Finden von Kritische Dimension?

Die Formel von Kritische Dimension wird als Critical Dimension = Prozessabhängige Konstante*Wellenlänge in der Fotolithographie/Numerische Apertur ausgedrückt. Hier ist ein Beispiel: 4.9E+11 = 1.56*2.23E-07/0.717.

Wie berechnet man Kritische Dimension?

Mit Prozessabhängige Konstante (k₁), Wellenlänge in der Fotolithographie (λ_l) & Numerische Apertur (NA) können wir Kritische Dimension mithilfe der Formel - Critical Dimension = Prozessabhängige Konstante*Wellenlänge in der Fotolithographie/Numerische Apertur finden.

Kann Kritische Dimension negativ sein?

NEIN, der in Länge gemessene Kritische Dimension kann kann nicht negativ sein.

Welche Einheit wird zum Messen von Kritische Dimension verwendet?

Kritische Dimension wird normalerweise mit Nanometer[nm] für Länge gemessen. Meter[nm], Millimeter[nm], Kilometer[nm] sind die wenigen anderen Einheiten, in denen Kritische Dimension gemessen werden kann.

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