Толщина оксида затвора после полного масштабирования в Изготовление СБИС Формулы

Толщина оксида затвора после полного масштабирования определяется как новая толщина оксидного слоя после уменьшения размеров транзистора за счет сохранения постоянного электрического поля. И обозначается t_ox'. Толщина оксида затвора после полного масштабирования обычно измеряется с использованием нанометр для Длина. Обратите внимание, что значение Толщина оксида затвора после полного масштабирования всегда равно позитивный.

Формулы для поиска Толщина оксида затвора после полного масштабирования в Изготовление СБИС

fxТолщина оксида затвора после полного масштабирования СБИСИдти

Список переменных в формулах Изготовление СБИС

fx Толщина оксида ворот Идти

fx Коэффициент масштабирования Идти

FAQ

Что такое Толщина оксида затвора после полного масштабирования?

Толщина оксида затвора после полного масштабирования определяется как новая толщина оксидного слоя после уменьшения размеров транзистора за счет сохранения постоянного электрического поля. Толщина оксида затвора после полного масштабирования обычно измеряется с использованием нанометр для Длина. Обратите внимание, что значение Толщина оксида затвора после полного масштабирования всегда равно позитивный.

Может ли Толщина оксида затвора после полного масштабирования быть отрицательным?

Нет, Толщина оксида затвора после полного масштабирования, измеренная в Длина не могу, будет отрицательной.

Какая единица измерения используется для измерения Толщина оксида затвора после полного масштабирования?

Толщина оксида затвора после полного масштабирования обычно измеряется с использованием нанометр[nm] для Длина. Метр[nm], Миллиметр[nm], километр[nm] — это несколько других единиц, в которых можно измерить Толщина оксида затвора после полного масштабирования.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!