Плотность заряда области массового истощения СБИС Формула

Fx Копировать
LaTeX Копировать
Объемная плотность заряда области обеднения определяется как электрический заряд на единицу площади, связанной с областью обеднения в объеме полупроводникового устройства. Проверьте FAQs
QB0=-(1-(ΔLs+ΔLD2L))2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]NA|2Φs|
QB0 - Плотность заряда области массового истощения?ΔLs - Боковая протяженность области истощения с источником?ΔLD - Боковая протяженность области истощения с дренажом?L - Длина канала?NA - Концентрация акцептора?Φs - Поверхностный потенциал?[Charge-e] - Заряд электрона?[Permitivity-silicon] - Диэлектрическая проницаемость кремния?[Permitivity-vacuum] - Диэлектрическая проницаемость вакуума?

Пример Плотность заряда области массового истощения СБИС

С ценностями
С единицами
Только пример

Вот как уравнение Плотность заряда области массового истощения СБИС выглядит как с ценностями.

Вот как уравнение Плотность заряда области массового истощения СБИС выглядит как с единицами.

Вот как уравнение Плотность заряда области массового истощения СБИС выглядит как.

-0.2006Edit=-(1-(0.1Edit+0.2Edit22.5Edit))21.6E-1911.78.9E-121E+16Edit|26.86Edit|
Копировать
Сброс
Делиться
Вы здесь -
HomeIcon Дом » Category Инженерное дело » Category Электроника » Category Изготовление СБИС » fx Плотность заряда области массового истощения СБИС

Плотность заряда области массового истощения СБИС Решение

Следуйте нашему пошаговому решению о том, как рассчитать Плотность заряда области массового истощения СБИС?

Первый шаг Рассмотрим формулу
QB0=-(1-(ΔLs+ΔLD2L))2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]NA|2Φs|
Следующий шаг Заменить значения переменных
QB0=-(1-(0.1μm+0.2μm22.5μm))2[Charge-e][Permitivity-silicon][Permitivity-vacuum]1E+161/cm³|26.86V|
Следующий шаг Замещающие значения констант
QB0=-(1-(0.1μm+0.2μm22.5μm))21.6E-19C11.78.9E-12F/m1E+161/cm³|26.86V|
Следующий шаг Конвертировать единицы
QB0=-(1-(1E-7m+2E-7m22.5E-6m))21.6E-19C11.78.9E-12F/m1E+221/m³|26.86V|
Следующий шаг Подготовьтесь к оценке
QB0=-(1-(1E-7+2E-722.5E-6))21.6E-1911.78.9E-121E+22|26.86|
Следующий шаг Оценивать
QB0=-0.00200557851391776C/m²
Следующий шаг Преобразовать в единицу вывода
QB0=-0.200557851391776μC/cm²
Последний шаг Округление ответа
QB0=-0.2006μC/cm²

Плотность заряда области массового истощения СБИС Формула Элементы

Переменные
Константы
Функции
Плотность заряда области массового истощения
Объемная плотность заряда области обеднения определяется как электрический заряд на единицу площади, связанной с областью обеднения в объеме полупроводникового устройства.
Символ: QB0
Измерение: Плотность поверхностного зарядаЕдиница: μC/cm²
Примечание: Значение может быть положительным или отрицательным.
Боковая протяженность области истощения с источником
Боковая протяженность области истощения с источником — горизонтальное расстояние, на котором область истощения простирается вбок от вывода источника в полупроводниковом устройстве.
Символ: ΔLs
Измерение: ДлинаЕдиница: μm
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Боковая протяженность области истощения с дренажом
Боковая протяженность области истощения со стоком — горизонтальное расстояние, на котором область истощения простирается вбок от вывода стока в полупроводниковом устройстве.
Символ: ΔLD
Измерение: ДлинаЕдиница: μm
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Длина канала
Длина канала относится к физической длине полупроводникового материала между клеммами истока и стока внутри транзисторной структуры.
Символ: L
Измерение: ДлинаЕдиница: μm
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Концентрация акцептора
Концентрация акцептора относится к концентрации атомов акцепторной примеси в полупроводниковом материале.
Символ: NA
Измерение: Концентрация носителяЕдиница: 1/cm³
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Поверхностный потенциал
Поверхностный потенциал является ключевым параметром при оценке свойств тонкопленочных транзисторов по постоянному току.
Символ: Φs
Измерение: Электрический потенциалЕдиница: V
Примечание: Значение должно быть больше 0.
Заряд электрона
Заряд электрона — это фундаментальная физическая константа, представляющая электрический заряд, переносимый электроном, который является элементарной частицей с отрицательным электрическим зарядом.
Символ: [Charge-e]
Ценить: 1.60217662E-19 C
Диэлектрическая проницаемость кремния
Диэлектрическая проницаемость кремния измеряет его способность хранить электрическую энергию в электрическом поле, что жизненно важно в полупроводниковой технологии.
Символ: [Permitivity-silicon]
Ценить: 11.7
Диэлектрическая проницаемость вакуума
Диэлектрическая проницаемость вакуума — это фундаментальная физическая константа, которая описывает способность вакуума обеспечивать передачу линий электрического поля.
Символ: [Permitivity-vacuum]
Ценить: 8.85E-12 F/m
sqrt
Функция квадратного корня — это функция, которая принимает в качестве входных данных неотрицательное число и возвращает квадратный корень заданного входного числа.
Синтаксис: sqrt(Number)
abs
Абсолютное значение числа — это его расстояние от нуля на числовой прямой. Это всегда положительное значение, поскольку оно представляет величину числа без учета его направления.
Синтаксис: abs(Number)

Другие формулы в категории Оптимизация материалов СБИС

​Идти Коэффициент эффекта тела
γ=modu̲s(Vt-Vt0Φs+(Vsb)-Φs)
​Идти Плата за канал
Qch=Cg(Vgc-Vt)
​Идти Критическое напряжение
Vx=ExEch
​Идти DIBL Коэффициент
η=Vt0-VtVds

Как оценить Плотность заряда области массового истощения СБИС?

Оценщик Плотность заряда области массового истощения СБИС использует Bulk Depletion Region Charge Density = -(1-((Боковая протяженность области истощения с источником+Боковая протяженность области истощения с дренажом)/(2*Длина канала)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Концентрация акцептора*abs(2*Поверхностный потенциал)) для оценки Плотность заряда области массового истощения, Формула объемной плотности заряда области обеднения VLSI определяется как электрический заряд на единицу площади, связанной с областью обеднения в объеме полупроводникового устройства. Плотность заряда области массового истощения обозначается символом QB0.

Как оценить Плотность заряда области массового истощения СБИС с помощью этого онлайн-оценщика? Чтобы использовать этот онлайн-оценщик для Плотность заряда области массового истощения СБИС, введите Боковая протяженность области истощения с источником (ΔLs), Боковая протяженность области истощения с дренажом (ΔLD), Длина канала (L), Концентрация акцептора (NA) & Поверхностный потенциал s) и нажмите кнопку расчета.

FAQs на Плотность заряда области массового истощения СБИС

По какой формуле можно найти Плотность заряда области массового истощения СБИС?
Формула Плотность заряда области массового истощения СБИС выражается как Bulk Depletion Region Charge Density = -(1-((Боковая протяженность области истощения с источником+Боковая протяженность области истощения с дренажом)/(2*Длина канала)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Концентрация акцептора*abs(2*Поверхностный потенциал)). Вот пример: -20.055785 = -(1-((1E-07+2E-07)/(2*2.5E-06)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*1E+22*abs(2*6.86)).
Как рассчитать Плотность заряда области массового истощения СБИС?
С помощью Боковая протяженность области истощения с источником (ΔLs), Боковая протяженность области истощения с дренажом (ΔLD), Длина канала (L), Концентрация акцептора (NA) & Поверхностный потенциал s) мы можем найти Плотность заряда области массового истощения СБИС, используя формулу - Bulk Depletion Region Charge Density = -(1-((Боковая протяженность области истощения с источником+Боковая протяженность области истощения с дренажом)/(2*Длина канала)))*sqrt(2*[Charge-e]*[Permitivity-silicon]*[Permitivity-vacuum]*Концентрация акцептора*abs(2*Поверхностный потенциал)). В этой формуле также используются функции Заряд электрона, Диэлектрическая проницаемость кремния, Диэлектрическая проницаемость вакуума, константа(ы) и , Квадратный корень (sqrt), Абсолютный (абс).
Может ли Плотность заряда области массового истощения СБИС быть отрицательным?
Да, Плотность заряда области массового истощения СБИС, измеренная в Плотность поверхностного заряда может, будет отрицательной.
Какая единица измерения используется для измерения Плотность заряда области массового истощения СБИС?
Плотность заряда области массового истощения СБИС обычно измеряется с использованием Микрокулон на квадратный сантиметр[μC/cm²] для Плотность поверхностного заряда. Кулон на квадратный метр[μC/cm²], Кулон на квадратный сантиметр[μC/cm²], Кулон на квадратный дюйм[μC/cm²] — это несколько других единиц, в которых можно измерить Плотность заряда области массового истощения СБИС.
Copied!