FormulaDen.com

физика Химия математика Химическая инженерия Гражданская Электрические Электроника Электроника и приборы Материаловедение Механический Технология производства финансовый Здоровье

Критическое измерение Формула

Fx Копировать

LaTeX Копировать

Критический размер в производстве полупроводников относится к наименьшему размеру элемента или наименьшему измеримому размеру в данном процессе. Проверьте FAQs

CD = k 1 \cdot \frac{λ l}{NA}

CD - Критическое измерение?k₁ - Зависимая от процесса константа?λ_l - Длина волны в фотолитографии?NA - Числовая апертура?

Пример Критическое измерение

С ценностями

С единицами

Только пример

Вот как уравнение Критическое измерение выглядит как с ценностями.

Вот как уравнение Критическое измерение выглядит как с единицами.

Вот как уравнение Критическое измерение выглядит как.

485.1883 = 1.56 \cdot \frac{223}{0.717}

485.1883nm = 1.56 \cdot \frac{223nm}{0.717}

485.1883 = 1.56 \cdot \frac{223}{0.717}

Кончик: Используйте значок карандаша ( Pencil

) выше, чтобы редактировать входные значения и единицы измерения.

Рассчитать

Пересчитать

Решение

Копировать

Сброс

Делиться

Вы здесь -

Дом » Category

Инженерное дело » Category

Электроника » Category

Интегральные схемы (ИС) » fx Критическое измерение

Критическое измерение Решение

Следуйте нашему пошаговому решению о том, как рассчитать Критическое измерение?

Первый шаг Рассмотрим формулу

CD = k 1 \cdot \frac{λ l}{NA}

Следующий шаг Заменить значения переменных

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{223nm}{0.717}

Следующий шаг Конвертировать единицы

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{2.2E-7m}{0.717}

Следующий шаг Подготовьтесь к оценке

∴

CD = 1.56 \cdot \frac{2.2E-7}{0.717}

Следующий шаг Оценивать

∴

CD = 4.85188284518829E-07m

Следующий шаг Преобразовать в единицу вывода

∴

CD = 485.188284518829nm

Последний шаг Округление ответа

∴

CD = 485.1883nm

Критическое измерение Формула Элементы

Переменные

Критическое измерение

Критический размер в производстве полупроводников относится к наименьшему размеру элемента или наименьшему измеримому размеру в данном процессе.

Символ: CD

Измерение: ДлинаЕдиница: nm

Примечание: Значение должно быть больше 0.

Формулы для поиска Критическое измерение

Зависимая от процесса константа

Константа, зависящая от процесса, относится к параметру или значению, которое характеризует конкретный аспект производственного процесса и оказывает существенное влияние на производительность полупроводниковых устройств.

Символ: k₁

Измерение: NAЕдиница: Unitless

Примечание: Значение должно быть больше 0.

Формулы для поиска Зависимая от процесса константа

Длина волны в фотолитографии

Длина волны в фотолитографии относится к определенному диапазону электромагнитного излучения, используемого для формирования рисунка на полупроводниковых пластинах в процессе производства полупроводников.

Символ: λ_l

Измерение: Длина волныЕдиница: nm

Примечание: Значение должно быть больше 0.

Формулы для поиска Длина волны в фотолитографии

Числовая апертура

Числовая апертура оптической системы — это параметр, используемый в оптике для описания возможностей оптической системы. В контексте производства полупроводников и фотолитографии.

Символ: NA

Измерение: NAЕдиница: Unitless

Примечание: Значение должно быть больше 0.

Формулы для поиска Числовая апертура

Другие формулы в категории Изготовление МОП-ИС

Идти Эффект тела в MOSFET

V t = V th + γ \cdot (\sqrt{2 \cdot Φ f + V bs} - \sqrt{2 \cdot Φ f})

Идти Частота MOSFET с единичным коэффициентом усиления

f t = \frac{g m}{C gs + C gd}

Идти Ток стока MOSFET в области насыщения

I d = \frac{β}{2} \cdot {(V gs - V th)}^{2} \cdot (1 + λ i \cdot V ds)

Идти Сопротивление канала

R ch = \frac{L t}{W t} \cdot \frac{1}{μ n \cdot Q on}

Узнать больше OpenImg

Как оценить Критическое измерение?

Оценщик Критическое измерение использует Critical Dimension = Зависимая от процесса константа*Длина волны в фотолитографии/Числовая апертура для оценки Критическое измерение, Критический размер относится к наименьшему размеру или размеру элемента, который определяет производительность и функциональность схемы. Это имеет решающее значение для определения разрешения и точности производственного процесса. Критическое измерение обозначается символом CD.

Как оценить Критическое измерение с помощью этого онлайн-оценщика? Чтобы использовать этот онлайн-оценщик для Критическое измерение, введите Зависимая от процесса константа (k₁), Длина волны в фотолитографии (λ_l) & Числовая апертура (NA) и нажмите кнопку расчета.

FAQs на Критическое измерение

По какой формуле можно найти Критическое измерение?

Формула Критическое измерение выражается как Critical Dimension = Зависимая от процесса константа*Длина волны в фотолитографии/Числовая апертура. Вот пример: 4.9E+11 = 1.56*2.23E-07/0.717.

Как рассчитать Критическое измерение?

С помощью Зависимая от процесса константа (k₁), Длина волны в фотолитографии (λ_l) & Числовая апертура (NA) мы можем найти Критическое измерение, используя формулу - Critical Dimension = Зависимая от процесса константа*Длина волны в фотолитографии/Числовая апертура.

Может ли Критическое измерение быть отрицательным?

Нет, Критическое измерение, измеренная в Длина не могу, будет отрицательной.

Какая единица измерения используется для измерения Критическое измерение?

Критическое измерение обычно измеряется с использованием нанометр[nm] для Длина. Метр[nm], Миллиметр[nm], километр[nm] — это несколько других единиц, в которых можно измерить Критическое измерение.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!

: Ценить
: Единица

Критическое измерение Формула

Пример Критическое измерение

Критическое измерение Решение

Критическое измерение Формула Элементы

Другие формулы в категории Изготовление МОП-ИС

Как оценить Критическое измерение?

FAQs на Критическое измерение

Variable Name