A dopagem no lado N refere-se ao processo de introdução de tipos específicos de impurezas na região semicondutora do tipo N de um dispositivo semicondutor. E é denotado por Ndn. Doping no lado N geralmente é medido usando 1 por centímetro cúbico para Densidade numérica. Observe que o valor de Doping no lado N é sempre positivo.