Capacitância de óxido após escala completa em Fabricação VLSI Fórmulas

A capacitância de óxido após a escala completa é referida à nova capacitância após a redução das dimensões do MOSFET pela escala completa. E é denotado por C_oxide'. Capacitância de óxido após escala completa geralmente é medido usando Microfarad por centímetro quadrado para Capacitância de óxido por unidade de área. Observe que o valor de Capacitância de óxido após escala completa é sempre positivo.

Fórmulas para encontrar Capacitância de óxido após escala completa em Fabricação VLSI

fxCapacitância de Óxido após Full Scaling VLSIIr

Lista de variáveis em fórmulas Fabricação VLSI

fx Capacitância de Óxido por Unidade de Área Ir

fx Fator de escala Ir

FAQ

O que é Capacitância de óxido após escala completa?

A capacitância de óxido após a escala completa é referida à nova capacitância após a redução das dimensões do MOSFET pela escala completa. Capacitância de óxido após escala completa geralmente é medido usando Microfarad por centímetro quadrado para Capacitância de óxido por unidade de área. Observe que o valor de Capacitância de óxido após escala completa é sempre positivo.

O Capacitância de óxido após escala completa pode ser negativo?

Não, o Capacitância de óxido após escala completa, medido em Capacitância de óxido por unidade de área não pode ser negativo.

Qual unidade é usada para medir Capacitância de óxido após escala completa?

Capacitância de óxido após escala completa geralmente é medido usando Microfarad por centímetro quadrado[μF/cm²] para Capacitância de óxido por unidade de área. Farad por metro quadrado[μF/cm²], Nanofarad por centímetro quadrado[μF/cm²], Microfarad por Milímetro Quadrado[μF/cm²] são as poucas outras unidades nas quais Capacitância de óxido após escala completa pode ser medido.

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