Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu w Produkcja VLSI Formuły

Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu odnosi się do nowej pojemności po zmniejszeniu wymiarów MOSFET-a poprzez pełne skalowanie. I jest oznaczony przez C_oxide'. Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu jest zwykle mierzona przy użyciu Mikrofarad na centymetr kwadratowy dla Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni. Należy pamiętać, że wartość Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu to zawsze pozytywny.

Formuły umożliwiające znalezienie zmiennej Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu w kategorii Produkcja VLSI

fxPojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu VLSIIść

Lista zmiennych w formułach Produkcja VLSI

fx Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni Iść

fx Współczynnik skalowania Iść

FAQ

Co to jest Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu?

Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu odnosi się do nowej pojemności po zmniejszeniu wymiarów MOSFET-a poprzez pełne skalowanie. Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu jest zwykle mierzona przy użyciu Mikrofarad na centymetr kwadratowy dla Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni. Należy pamiętać, że wartość Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu to zawsze pozytywny.

Czy Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu może być ujemna?

NIE, Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu, zmierzona w Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni Nie mogę będzie ujemna.

Jakiej jednostki używa się do pomiaru Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu?

Wartość Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu jest zwykle mierzona przy użyciu zmiennej Mikrofarad na centymetr kwadratowy[μF/cm²] dla wartości Pojemność tlenkowa na jednostkę powierzchni. Farad na metr kwadratowy[μF/cm²], Nanofarad na centymetr kwadratowy[μF/cm²], Mikrofarad na milimetr kwadratowy[μF/cm²] to kilka innych jednostek, w których można mierzyć Pojemność tlenkowa po pełnym skalowaniu.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!