Koncentracja dziur w paśmie Valance'a w Urządzenia półprzewodnikowe Formuły

Koncentracja dziur w paśmie walencyjnym odnosi się do ilości lub obfitości dziur obecnych w paśmie walencyjnym materiału półprzewodnikowego. I jest oznaczony przez p₀. Koncentracja dziur w paśmie Valance'a jest zwykle mierzona przy użyciu 1 na metr sześcienny dla Koncentracja nośników. Należy pamiętać, że wartość Koncentracja dziur w paśmie Valance'a to zawsze pozytywny.

Formuły umożliwiające znalezienie zmiennej Koncentracja dziur w paśmie Valance'a w kategorii Urządzenia półprzewodnikowe

fxKoncentracja dziur w paśmie walencyjnymIść

Formuły Urządzenia półprzewodnikowe korzystające z Koncentracja dziur w paśmie Valance'a

fxCarrier LifetimeIść

fxEfektywny stan gęstości w paśmie walencyjnymIść

fxŻywotność rekombinacjiIść

Lista zmiennych w formułach Urządzenia półprzewodnikowe

fx Efektywna gęstość stanu w paśmie walencyjnym Iść

fx Funkcja Fermiego Iść

FAQ

Co to jest Koncentracja dziur w paśmie Valance'a?

Koncentracja dziur w paśmie walencyjnym odnosi się do ilości lub obfitości dziur obecnych w paśmie walencyjnym materiału półprzewodnikowego. Koncentracja dziur w paśmie Valance'a jest zwykle mierzona przy użyciu 1 na metr sześcienny dla Koncentracja nośników. Należy pamiętać, że wartość Koncentracja dziur w paśmie Valance'a to zawsze pozytywny.

Czy Koncentracja dziur w paśmie Valance'a może być ujemna?

NIE, Koncentracja dziur w paśmie Valance'a, zmierzona w Koncentracja nośników Nie mogę będzie ujemna.

Jakiej jednostki używa się do pomiaru Koncentracja dziur w paśmie Valance'a?

Wartość Koncentracja dziur w paśmie Valance'a jest zwykle mierzona przy użyciu zmiennej 1 na metr sześcienny[1/m³] dla wartości Koncentracja nośników. 1 na centymetr sześcienny[1/m³], na litr[1/m³] to kilka innych jednostek, w których można mierzyć Koncentracja dziur w paśmie Valance'a.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!