Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu w Produkcja VLSI Formuły

Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu definiuje się jako nową grubość warstwy tlenku po zmniejszeniu wymiarów tranzystora poprzez utrzymanie stałego pola elektrycznego. I jest oznaczony przez t_ox'. Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu jest zwykle mierzona przy użyciu Nanometr dla Długość. Należy pamiętać, że wartość Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu to zawsze pozytywny.

Formuły umożliwiające znalezienie zmiennej Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu w kategorii Produkcja VLSI

fxGrubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu VLSIIść

Lista zmiennych w formułach Produkcja VLSI

fx Grubość tlenku bramki Iść

fx Współczynnik skalowania Iść

FAQ

Co to jest Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu?

Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu definiuje się jako nową grubość warstwy tlenku po zmniejszeniu wymiarów tranzystora poprzez utrzymanie stałego pola elektrycznego. Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu jest zwykle mierzona przy użyciu Nanometr dla Długość. Należy pamiętać, że wartość Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu to zawsze pozytywny.

Czy Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu może być ujemna?

NIE, Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu, zmierzona w Długość Nie mogę będzie ujemna.

Jakiej jednostki używa się do pomiaru Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu?

Wartość Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu jest zwykle mierzona przy użyciu zmiennej Nanometr[nm] dla wartości Długość. Metr[nm], Milimetr[nm], Kilometr[nm] to kilka innych jednostek, w których można mierzyć Grubość tlenku bramki po pełnym skalowaniu.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!