Oxidecapaciteit na volledige schaling in VLSI-fabricage Formules

Oxidecapaciteit na volledige schaling wordt verwezen naar de nieuwe capaciteit na het verkleinen van de afmetingen van de MOSFET door volledige schaling. En wordt aangegeven met C_oxide'. Oxidecapaciteit na volledige schaling wordt gewoonlijk gemeten met de Microfarad per vierkante centimeter voor Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid. Houd er rekening mee dat de waarde van Oxidecapaciteit na volledige schaling altijd positief is.

Formules om Oxidecapaciteit na volledige schaling te vinden in VLSI-fabricage

fxOxidecapaciteit na volledige schaling VLSIGan

Lijst met variabelen in formules van VLSI-fabricage

fx Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid Gan

fx Schaalfactor Gan

FAQ

Wat is de Oxidecapaciteit na volledige schaling?

Oxidecapaciteit na volledige schaling wordt verwezen naar de nieuwe capaciteit na het verkleinen van de afmetingen van de MOSFET door volledige schaling. Oxidecapaciteit na volledige schaling wordt gewoonlijk gemeten met de Microfarad per vierkante centimeter voor Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid. Houd er rekening mee dat de waarde van Oxidecapaciteit na volledige schaling altijd positief is.

Kan de Oxidecapaciteit na volledige schaling negatief zijn?

Nee, de Oxidecapaciteit na volledige schaling, gemeten in Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid kan niet moet negatief zijn.

Welke eenheid wordt gebruikt om Oxidecapaciteit na volledige schaling te meten?

Oxidecapaciteit na volledige schaling wordt meestal gemeten met de Microfarad per vierkante centimeter[μF/cm²] voor Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid. Farad per vierkante meter[μF/cm²], Nanofarad per vierkante centimeter[μF/cm²], Microfarad per vierkante millimeter[μF/cm²] zijn de weinige andere eenheden waarin Oxidecapaciteit na volledige schaling kan worden gemeten.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!