Oxidecapaciteit na spanningsschaling in VLSI-fabricage Formules

Oxidecapaciteit na spanningsschaling heeft betrekking op de capaciteit die is geassocieerd met de oxidelaag tussen de metalen poort en het substraat nadat het apparaat is verkleind door spanningsschaling. En wordt aangegeven met C_ox(vs)'. Oxidecapaciteit na spanningsschaling wordt gewoonlijk gemeten met de Nanofarad per vierkante centimeter voor Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid. Houd er rekening mee dat de waarde van Oxidecapaciteit na spanningsschaling altijd positief is.

Formules om Oxidecapaciteit na spanningsschaling te vinden in VLSI-fabricage

fxOxidecapaciteit na spanningsschaling VLSIGan

Lijst met variabelen in formules van VLSI-fabricage

fx Schaalfactor Gan

fx Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid Gan

FAQ

Wat is de Oxidecapaciteit na spanningsschaling?

Oxidecapaciteit na spanningsschaling heeft betrekking op de capaciteit die is geassocieerd met de oxidelaag tussen de metalen poort en het substraat nadat het apparaat is verkleind door spanningsschaling. Oxidecapaciteit na spanningsschaling wordt gewoonlijk gemeten met de Nanofarad per vierkante centimeter voor Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid. Houd er rekening mee dat de waarde van Oxidecapaciteit na spanningsschaling altijd positief is.

Kan de Oxidecapaciteit na spanningsschaling negatief zijn?

Nee, de Oxidecapaciteit na spanningsschaling, gemeten in Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid kan niet moet negatief zijn.

Welke eenheid wordt gebruikt om Oxidecapaciteit na spanningsschaling te meten?

Oxidecapaciteit na spanningsschaling wordt meestal gemeten met de Nanofarad per vierkante centimeter[nF/cm²] voor Oxidecapaciteit per oppervlakte-eenheid. Farad per vierkante meter[nF/cm²], Microfarad per vierkante centimeter[nF/cm²], Microfarad per vierkante millimeter[nF/cm²] zijn de weinige andere eenheden waarin Oxidecapaciteit na spanningsschaling kan worden gemeten.

Let Others Know

✖

Facebook

Twitter

Copied!