FormulaDen.com
Fysica
Chemie
Wiskunde
Chemische technologie
Civiel
Elektrisch
Elektronica
Elektronica en instrumentatie
Materiaal kunde
Mechanisch
Productie Engineering
Financieel
Gezondheid
Je bent hier
-
Thuis
»
Engineering
»
Chemische technologie
»
Ontwerp van procesapparatuur
Ontwerpstress in Ontwerp van vaten die onderhevig zijn aan interne druk Formules
Ontwerpstress is de stress waarbij de factor veiligheid kan optreden. En wordt aangegeven met F
c
. Ontwerpstress wordt gewoonlijk gemeten met de Newton/Plein Meter voor Druk. Houd er rekening mee dat de waarde van Ontwerpstress altijd negatief is.
Ontwerp van vaten die onderhevig zijn aan interne druk-formules die gebruik maken van Ontwerpstress
f
x
Dikte van elliptische kop:
Gan
f
x
Dikte van Ondiepe schotel en Standaard schotel (Torishperical) Head
Gan
f
x
Dikte van platte plaatafdekking of kop
Gan
FAQ
Wat is de Ontwerpstress?
Ontwerpstress is de stress waarbij de factor veiligheid kan optreden. Ontwerpstress wordt gewoonlijk gemeten met de Newton/Plein Meter voor Druk. Houd er rekening mee dat de waarde van Ontwerpstress altijd negatief is.
Kan de Ontwerpstress negatief zijn?
Ja, de Ontwerpstress, gemeten in Druk kan moet negatief zijn.
Welke eenheid wordt gebruikt om Ontwerpstress te meten?
Ontwerpstress wordt meestal gemeten met de Newton/Plein Meter[N/m²] voor Druk. Pascal[N/m²], Kilopascal[N/m²], Bar[N/m²] zijn de weinige andere eenheden waarin Ontwerpstress kan worden gemeten.
Let Others Know
✖
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!