FormulaDen.com
Fysica
Chemie
Wiskunde
Chemische technologie
Civiel
Elektrisch
Elektronica
Elektronica en instrumentatie
Materiaal kunde
Mechanisch
Productie Engineering
Financieel
Gezondheid
Je bent hier
-
Thuis
»
Engineering
»
Elektronica
»
VLSI-fabricage
Intrinsieke concentratie in VLSI-fabricage Formules
Intrinsieke concentratie verwijst naar de concentratie van ladingsdragers (elektronen en gaten) in een intrinsieke halfgeleider bij thermisch evenwicht. En wordt aangegeven met N
i
. Intrinsieke concentratie wordt gewoonlijk gemeten met de 1 per kubieke centimeter voor Drager Concentratie. Houd er rekening mee dat de waarde van Intrinsieke concentratie altijd positief is.
VLSI-fabricage-formules die gebruik maken van Intrinsieke concentratie
f
x
Oppervlakte Potentieel
Gan
f
x
Verbinding Ingebouwde spanning VLSI
Gan
f
x
Potentieel tussen Bron en Lichaam
Gan
FAQ
Wat is de Intrinsieke concentratie?
Intrinsieke concentratie verwijst naar de concentratie van ladingsdragers (elektronen en gaten) in een intrinsieke halfgeleider bij thermisch evenwicht. Intrinsieke concentratie wordt gewoonlijk gemeten met de 1 per kubieke centimeter voor Drager Concentratie. Houd er rekening mee dat de waarde van Intrinsieke concentratie altijd positief is.
Kan de Intrinsieke concentratie negatief zijn?
Nee, de Intrinsieke concentratie, gemeten in Drager Concentratie kan niet moet negatief zijn.
Welke eenheid wordt gebruikt om Intrinsieke concentratie te meten?
Intrinsieke concentratie wordt meestal gemeten met de 1 per kubieke centimeter[1/cm³] voor Drager Concentratie. 1 per kubieke meter[1/cm³], per liter[1/cm³] zijn de weinige andere eenheden waarin Intrinsieke concentratie kan worden gemeten.
Let Others Know
✖
Facebook
Twitter
Reddit
LinkedIn
Email
WhatsApp
Copied!