FAQ

वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस क्या है?
वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस, वोल्टेज स्केलिंग द्वारा डिवाइस को स्केल करने के बाद मेटल गेट और सब्सट्रेट के बीच ऑक्साइड परत से जुड़ी कैपेसिटेंस को संदर्भित करता है। वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस को आम तौर पर ऑक्साइड कैपेसिटेंस प्रति यूनिट क्षेत्र के लिए नैनोफराड प्रति वर्ग सेंटीमीटर का उपयोग करके मापा जाता है। ध्यान दें कि वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस का मान हमेशा सकारात्मक होता है।
क्या वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस ऋणात्मक हो सकता है?
{हां या नहीं}, {आउटपुट वेरिएबल मापन नाम} में मापा गया वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस, ऋणात्मक {हो सकता है या नहीं हो सकता}।
वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस को मापने के लिए किस इकाई का उपयोग किया जाता है?
वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस को आम तौर पर ऑक्साइड कैपेसिटेंस प्रति यूनिट क्षेत्र के लिए नैनोफराड प्रति वर्ग सेंटीमीटर[nF/cm²] का उपयोग करके मापा जाता है। फैराड प्रति वर्ग मीटर[nF/cm²], माइक्रोफ़ारड प्रति वर्ग सेंटीमीटर[nF/cm²], माइक्रोफ़ारड प्रति वर्ग मिलीमीटर[nF/cm²] कुछ अन्य इकाइयाँ हैं जिनमें वोल्टेज स्केलिंग के बाद ऑक्साइड कैपेसिटेंस को मापा जा सकता है।
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