Épaisseur d'oxyde de porte après mise à l'échelle complète dans Fabrication VLSI Formules

L’épaisseur de l’oxyde de grille après mise à l’échelle complète est définie comme la nouvelle épaisseur de la couche d’oxyde après réduction des dimensions du transistor en maintenant le champ électrique constant. Et est désigné par t_ox'. Épaisseur d'oxyde de porte après mise à l'échelle complète est généralement mesuré à l'aide du Nanomètre pour Longueur. Notez que la valeur de Épaisseur d'oxyde de porte après mise à l'échelle complète est toujours positif.