Capacité d'oxyde après mise à l'échelle de la tension dans Fabrication VLSI Formules

La capacité d’oxyde après mise à l’échelle de tension fait référence à la capacité associée à la couche d’oxyde entre la grille métallique et le substrat après que le dispositif a été réduit par mise à l’échelle de tension. Et est désigné par C_ox(vs)'. Capacité d'oxyde après mise à l'échelle de la tension est généralement mesuré à l'aide du Nanofarad par centimètre carré pour Capacité d'oxyde par unité de surface. Notez que la valeur de Capacité d'oxyde après mise à l'échelle de la tension est toujours positif.