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Capacitancia de óxido por unidad de área en Fabricación de VLSI Fórmulas

La capacitancia de óxido por unidad de área se define como la capacitancia por unidad de área de la capa de óxido aislante que separa la puerta metálica del material semiconductor. Y se indica con Coxide. Capacitancia de óxido por unidad de área generalmente se mide usando Microfaradio por centímetro cuadrado para Capacitancia de óxido por unidad de área. Tenga en cuenta que el valor de Capacitancia de óxido por unidad de área es siempre positivo.

Fórmulas de Fabricación de VLSI que utilizan Capacitancia de óxido por unidad de área

fxCorriente de saturación de canal corto VLSI​Ir
fxCapacitancia de óxido después de VLSI de escala completa​Ir
fxReducción de voltaje de umbral de canal corto VLSI​Ir
fxCapacitancia de óxido después del escalado de voltaje VLSI​Ir
fxVoltaje de umbral adicional de canal estrecho VLSI​Ir

FAQ

¿Qué es Capacitancia de óxido por unidad de área?
La capacitancia de óxido por unidad de área se define como la capacitancia por unidad de área de la capa de óxido aislante que separa la puerta metálica del material semiconductor. Capacitancia de óxido por unidad de área generalmente se mide usando Microfaradio por centímetro cuadrado para Capacitancia de óxido por unidad de área. Tenga en cuenta que el valor de Capacitancia de óxido por unidad de área es siempre positivo.
¿Puede el Capacitancia de óxido por unidad de área ser negativo?
No, el Capacitancia de óxido por unidad de área, medido en Capacitancia de óxido por unidad de área no puedo sea negativo.
¿Qué unidad se utiliza para medir Capacitancia de óxido por unidad de área?
Capacitancia de óxido por unidad de área generalmente se mide usando Microfaradio por centímetro cuadrado[μF/cm²] para Capacitancia de óxido por unidad de área. Farad por metro cuadrado[μF/cm²], Nanofaradio por centímetro cuadrado[μF/cm²], Microfaradio por milímetro cuadrado[μF/cm²] son las pocas otras unidades en las que se puede medir Capacitancia de óxido por unidad de área.
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