Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung in VLSI-Herstellung Formeln

Die Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung wird als neue Kapazität bezeichnet, nachdem die Abmessungen des MOSFET durch vollständige Skalierung reduziert wurden. Und wird durch C_oxide' gekennzeichnet. Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung wird normalerweise mit Mikrofarad pro Quadratzentimeter für Oxidkapazität pro Flächeneinheit gemessen. Beachten Sie, dass der Wert von Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung immer positiv ist.

Formeln zum Suchen von Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung in VLSI-Herstellung

fxOxidkapazität nach vollständiger Skalierung von VLSIge

Liste der Variablen in VLSI-Herstellung-Formeln

fx Oxidkapazität pro Flächeneinheit ge

fx Vergößerungsfaktor, Verkleinerungsfaktor ge

FAQ

Was ist der Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung?

Die Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung wird als neue Kapazität bezeichnet, nachdem die Abmessungen des MOSFET durch vollständige Skalierung reduziert wurden. Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung wird normalerweise mit Mikrofarad pro Quadratzentimeter für Oxidkapazität pro Flächeneinheit gemessen. Beachten Sie, dass der Wert von Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung immer positiv ist.

Kann Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung negativ sein?

NEIN, der in Oxidkapazität pro Flächeneinheit gemessene Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung kann kann nicht negativ sein.

Welche Einheit wird zum Messen von Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung verwendet?

Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung wird normalerweise mit Mikrofarad pro Quadratzentimeter[μF/cm²] für Oxidkapazität pro Flächeneinheit gemessen. Farad pro Quadratmeter[μF/cm²], Nanofarad pro Quadratzentimeter[μF/cm²], Mikrofarad pro Quadratmillimeter[μF/cm²] sind die wenigen anderen Einheiten, in denen Oxidkapazität nach vollständiger Skalierung gemessen werden kann.

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